现代仪器
現代儀器
현대의기
MODERN INSTRUMENTS
2001年
3期
28-30
,共3页
任殿胜%李雨辰%严如岳%王为
任殿勝%李雨辰%嚴如嶽%王為
임전성%리우신%엄여악%왕위
GaAs%表面钝化%XPS
GaAs%錶麵鈍化%XPS
GaAs%표면둔화%XPS
本文用Na2S·9H2O的水溶液及乙醇和异丙醇溶液对GaAs表面进行了钝化处理;用X射线光电子能谱仪(XPS)对钝化表面的化学组成和价态以及钝化层的厚度进行了研究.结果表明,经不同的Na2S溶液处理后GaAs表面的自然氧化层会被除去,表面生成硫化镓和硫化砷;硫化物的含量与硫化层厚度与所用溶液的极性有关;并对钝化机理进行了探讨.
本文用Na2S·9H2O的水溶液及乙醇和異丙醇溶液對GaAs錶麵進行瞭鈍化處理;用X射線光電子能譜儀(XPS)對鈍化錶麵的化學組成和價態以及鈍化層的厚度進行瞭研究.結果錶明,經不同的Na2S溶液處理後GaAs錶麵的自然氧化層會被除去,錶麵生成硫化鎵和硫化砷;硫化物的含量與硫化層厚度與所用溶液的極性有關;併對鈍化機理進行瞭探討.
본문용Na2S·9H2O적수용액급을순화이병순용액대GaAs표면진행료둔화처리;용X사선광전자능보의(XPS)대둔화표면적화학조성화개태이급둔화층적후도진행료연구.결과표명,경불동적Na2S용액처리후GaAs표면적자연양화층회피제거,표면생성류화가화류화신;류화물적함량여류화층후도여소용용액적겁성유관;병대둔화궤리진행료탐토.