真空
真空
진공
VACUUM
2009年
3期
46-48
,共3页
张义邴%柯一青%周迪帆%顾锦模%李明%朱红妹%钟敏建
張義邴%柯一青%週迪帆%顧錦模%李明%硃紅妹%鐘敏建
장의병%가일청%주적범%고금모%리명%주홍매%종민건
薄膜%电子束蒸发%超高真空%计算机接口%自动控制
薄膜%電子束蒸髮%超高真空%計算機接口%自動控製
박막%전자속증발%초고진공%계산궤접구%자동공제
由于薄膜生长均匀、沉积速率和膜厚易控、可制备大面积薄膜等特点,电子束沉积技术在超导薄膜、多层巨磁阻薄膜、超晶格薄膜中得到了深入研究.电子束沉积技术的关键是其薄膜生长和控制系统.本文基于微型计算机DA和IEEE 488接口技术,报道了一种全自动超高真空电子束蒸发薄膜生长系统,自动化程度高,使用方便,名义薄膜厚度测量分辨率可达0.1A精度,可实现双源共蒸发功能和程序预设定的多源多层薄膜自动沉积.
由于薄膜生長均勻、沉積速率和膜厚易控、可製備大麵積薄膜等特點,電子束沉積技術在超導薄膜、多層巨磁阻薄膜、超晶格薄膜中得到瞭深入研究.電子束沉積技術的關鍵是其薄膜生長和控製繫統.本文基于微型計算機DA和IEEE 488接口技術,報道瞭一種全自動超高真空電子束蒸髮薄膜生長繫統,自動化程度高,使用方便,名義薄膜厚度測量分辨率可達0.1A精度,可實現雙源共蒸髮功能和程序預設定的多源多層薄膜自動沉積.
유우박막생장균균、침적속솔화막후역공、가제비대면적박막등특점,전자속침적기술재초도박막、다층거자조박막、초정격박막중득도료심입연구.전자속침적기술적관건시기박막생장화공제계통.본문기우미형계산궤DA화IEEE 488접구기술,보도료일충전자동초고진공전자속증발박막생장계통,자동화정도고,사용방편,명의박막후도측량분변솔가체0.1A정도,가실현쌍원공증발공능화정서예설정적다원다층박막자동침적.
