电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2011年
9期
21-23,30
,共4页
化学镀镍液%氢氧化钙沉淀法%再生
化學鍍鎳液%氫氧化鈣沉澱法%再生
화학도얼액%경양화개침정법%재생
采用氢氧化钙沉淀法去除化学镀镍液中的亚磷酸根、硫酸根等有害离子,并用氟化物去除多余的钙离子,可实现镀液的循环利用.分析了亚磷酸根去除率与钙离子添加量、沉淀时间、温度的关系,实验结果表明循环利用的镀液能维持较高的镀速.
採用氫氧化鈣沉澱法去除化學鍍鎳液中的亞燐痠根、硫痠根等有害離子,併用氟化物去除多餘的鈣離子,可實現鍍液的循環利用.分析瞭亞燐痠根去除率與鈣離子添加量、沉澱時間、溫度的關繫,實驗結果錶明循環利用的鍍液能維持較高的鍍速.
채용경양화개침정법거제화학도얼액중적아린산근、류산근등유해리자,병용불화물거제다여적개리자,가실현도액적순배이용.분석료아린산근거제솔여개리자첨가량、침정시간、온도적관계,실험결과표명순배이용적도액능유지교고적도속.
