中国基础科学
中國基礎科學
중국기출과학
CHINA BASIC SCIENCE
2011年
1期
15-17
,共3页
磁控反应溅射%激光退火%薄膜晶化%掺杂
磁控反應濺射%激光退火%薄膜晶化%摻雜
자공반응천사%격광퇴화%박막정화%참잡
氮掺杂二氧化钛的光催化活性能够被可见光激活,从而大大提高其对太阳光能的利用效率.为了解决材料晶化与氮掺杂在晶化过程中损失这一矛盾,以制备出高浓度氮掺杂二氧化钛晶化薄膜材料,本文的研究发展出一种结合了磁控反应溅射与激光退火处理的新型非平衡态制备工艺.与传统的热处理工艺相比,激光退火处理能够获得具有更高氮掺杂浓度、更好晶化效果、更好可见光吸收效果的样品,在光催化分解有机污染物实验中展现出更优异的性能.激光退火处理晶化工艺可以在室温下进行,对于薄膜基体的影响范围非常浅,特别适用于晶化塑料/有机物基体上的薄膜涂层.通过在溅射薄膜中保持掺杂物浓度,激光退火处理能够获得传统工艺无法得到的材料性能.这种方法能进一步推广应用在其它材料体系中,制备出具有新性能的各种薄膜材料,以满足广泛的应用需要.
氮摻雜二氧化鈦的光催化活性能夠被可見光激活,從而大大提高其對太暘光能的利用效率.為瞭解決材料晶化與氮摻雜在晶化過程中損失這一矛盾,以製備齣高濃度氮摻雜二氧化鈦晶化薄膜材料,本文的研究髮展齣一種結閤瞭磁控反應濺射與激光退火處理的新型非平衡態製備工藝.與傳統的熱處理工藝相比,激光退火處理能夠穫得具有更高氮摻雜濃度、更好晶化效果、更好可見光吸收效果的樣品,在光催化分解有機汙染物實驗中展現齣更優異的性能.激光退火處理晶化工藝可以在室溫下進行,對于薄膜基體的影響範圍非常淺,特彆適用于晶化塑料/有機物基體上的薄膜塗層.通過在濺射薄膜中保持摻雜物濃度,激光退火處理能夠穫得傳統工藝無法得到的材料性能.這種方法能進一步推廣應用在其它材料體繫中,製備齣具有新性能的各種薄膜材料,以滿足廣汎的應用需要.
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