人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2011年
2期
388-391
,共4页
彭增伟%刘保亭%魏大勇%马继奎%王宽冒%李曼%赵光
彭增偉%劉保亭%魏大勇%馬繼奎%王寬冒%李曼%趙光
팽증위%류보정%위대용%마계규%왕관모%리만%조광
光照%BiFe0.95Mn0.05O3薄膜%铁电性质%输运性质
光照%BiFe0.95Mn0.05O3薄膜%鐵電性質%輸運性質
광조%BiFe0.95Mn0.05O3박막%철전성질%수운성질
采用溶胶-凝胶法在Pt(111)/ Ti/ SiO2/ Si(001)基片上制备了BiFe0.95Mn0.05O3(BFMO)薄膜,并构架了Pt/ SrRuO3/ BFMO/ Pt型电容器.X射线衍射(XRD)分析发现在650℃快速退火可以得到良好结晶质量的多晶薄膜.紫光入射到薄膜表面,电滞回线发生变化,这是由于光照在薄膜内部产生的光生载流子影响了退极化场的分布.研究表明,在紫光照射下,薄膜的漏电流密度变大,电导由5.1×10-7 S增大到6.63×10-7S.通过对暗电流密度的拟合发现,BFMO薄膜为欧姆导电机制.
採用溶膠-凝膠法在Pt(111)/ Ti/ SiO2/ Si(001)基片上製備瞭BiFe0.95Mn0.05O3(BFMO)薄膜,併構架瞭Pt/ SrRuO3/ BFMO/ Pt型電容器.X射線衍射(XRD)分析髮現在650℃快速退火可以得到良好結晶質量的多晶薄膜.紫光入射到薄膜錶麵,電滯迴線髮生變化,這是由于光照在薄膜內部產生的光生載流子影響瞭退極化場的分佈.研究錶明,在紫光照射下,薄膜的漏電流密度變大,電導由5.1×10-7 S增大到6.63×10-7S.通過對暗電流密度的擬閤髮現,BFMO薄膜為歐姆導電機製.
채용용효-응효법재Pt(111)/ Ti/ SiO2/ Si(001)기편상제비료BiFe0.95Mn0.05O3(BFMO)박막,병구가료Pt/ SrRuO3/ BFMO/ Pt형전용기.X사선연사(XRD)분석발현재650℃쾌속퇴화가이득도량호결정질량적다정박막.자광입사도박막표면,전체회선발생변화,저시유우광조재박막내부산생적광생재류자영향료퇴겁화장적분포.연구표명,재자광조사하,박막적루전류밀도변대,전도유5.1×10-7 S증대도6.63×10-7S.통과대암전류밀도적의합발현,BFMO박막위구모도전궤제.
