南京大学学报（自然科学版）
南京大學學報（自然科學版）
남경대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF NANJING UNIVERSITY(NATURAL SCIENCES)
2006年
4期
346-350
,共5页
李伟%岑展鸿%钱波%梅嘉欣%徐骏%陈坤基
李偉%岑展鴻%錢波%梅嘉訢%徐駿%陳坤基
리위%잠전홍%전파%매가흔%서준%진곤기
场发射%氢化非晶碳%表面掺杂
場髮射%氫化非晶碳%錶麵摻雜
장발사%경화비정탄%표면참잡
氢化非晶碳膜作为一种场致阴极电子发射材料已被广泛研究,通过对薄膜进行掺杂以提高其场发射特性已被证明是行之有效的方法之一.利用常规等离子体化学气相淀积技术制备了氢化非晶碳薄膜材料,在原位利用氮等离子体对碳膜表面进行N型掺杂.通过不同手段研究了氮表面掺杂前后非晶碳膜的微结构和化学键的变化,对表面掺杂前后的薄膜的场电子特性的测量表明,在氮表面掺杂后其场电子发射特性有了明显改善,特别是场发射的阈值电场从掺杂前的3.2 V/μm下降到掺杂后的1.0 V/μm.初步实验分析表明:由于氮表面掺杂后,在碳膜表面形成N-H键,从而导致碳膜表面的有效功函数降低使场电子发射特性得以提高.
氫化非晶碳膜作為一種場緻陰極電子髮射材料已被廣汎研究,通過對薄膜進行摻雜以提高其場髮射特性已被證明是行之有效的方法之一.利用常規等離子體化學氣相澱積技術製備瞭氫化非晶碳薄膜材料,在原位利用氮等離子體對碳膜錶麵進行N型摻雜.通過不同手段研究瞭氮錶麵摻雜前後非晶碳膜的微結構和化學鍵的變化,對錶麵摻雜前後的薄膜的場電子特性的測量錶明,在氮錶麵摻雜後其場電子髮射特性有瞭明顯改善,特彆是場髮射的閾值電場從摻雜前的3.2 V/μm下降到摻雜後的1.0 V/μm.初步實驗分析錶明:由于氮錶麵摻雜後,在碳膜錶麵形成N-H鍵,從而導緻碳膜錶麵的有效功函數降低使場電子髮射特性得以提高.
경화비정탄막작위일충장치음겁전자발사재료이피엄범연구,통과대박막진행참잡이제고기장발사특성이피증명시행지유효적방법지일.이용상규등리자체화학기상정적기술제비료경화비정탄박막재료,재원위이용담등리자체대탄막표면진행N형참잡.통과불동수단연구료담표면참잡전후비정탄막적미결구화화학건적변화,대표면참잡전후적박막적장전자특성적측량표명,재담표면참잡후기장전자발사특성유료명현개선,특별시장발사적역치전장종참잡전적3.2 V/μm하강도참잡후적1.0 V/μm.초보실험분석표명:유우담표면참잡후,재탄막표면형성N-H건,종이도치탄막표면적유효공함수강저사장전자발사특성득이제고.
