人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2009年
4期
902-907
,共6页
欧阳煙%王茺%杨杰%夏中高%薄锐%杨宇
歐暘煙%王茺%楊傑%夏中高%薄銳%楊宇
구양연%왕충%양걸%하중고%박예%양우
缓冲层%周期结构%颗粒尺寸%红外吸收
緩遲層%週期結構%顆粒呎吋%紅外吸收
완충층%주기결구%과립척촌%홍외흡수
采用离子束溅射技术,通过改变Si缓冲层厚度,在p型Si衬底生长了一系列的Ge/Si多层膜样品.利用Raman光谱、X射线小角衍射以及原子力显微镜等分析测试技术,研究了多层薄膜的结晶、膜层结构、表面形貌等性质.结果表明:通过引入缓冲层,在一定程度上可以提高颗粒的结晶性;随着缓冲层逐渐沉积,来自界面态的影响有了明显的减弱,且多层膜结构的生长得到有效改善.红外吸收光谱实验表明多层膜的吸收特性与其周期结构密切相关,因此可以通过改变缓冲层厚度的方法,实现对多层薄膜红外吸收特性的调制.
採用離子束濺射技術,通過改變Si緩遲層厚度,在p型Si襯底生長瞭一繫列的Ge/Si多層膜樣品.利用Raman光譜、X射線小角衍射以及原子力顯微鏡等分析測試技術,研究瞭多層薄膜的結晶、膜層結構、錶麵形貌等性質.結果錶明:通過引入緩遲層,在一定程度上可以提高顆粒的結晶性;隨著緩遲層逐漸沉積,來自界麵態的影響有瞭明顯的減弱,且多層膜結構的生長得到有效改善.紅外吸收光譜實驗錶明多層膜的吸收特性與其週期結構密切相關,因此可以通過改變緩遲層厚度的方法,實現對多層薄膜紅外吸收特性的調製.
채용리자속천사기술,통과개변Si완충층후도,재p형Si츤저생장료일계렬적Ge/Si다층막양품.이용Raman광보、X사선소각연사이급원자력현미경등분석측시기술,연구료다층박막적결정、막층결구、표면형모등성질.결과표명:통과인입완충층,재일정정도상가이제고과립적결정성;수착완충층축점침적,래자계면태적영향유료명현적감약,차다층막결구적생장득도유효개선.홍외흡수광보실험표명다층막적흡수특성여기주기결구밀절상관,인차가이통과개변완충층후도적방법,실현대다층박막홍외흡수특성적조제.
