半导体技术
半導體技術
반도체기술
SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
2008年
9期
743-747
,共5页
何鉴%高子奇%李冰%郑金红%穆启道
何鑒%高子奇%李冰%鄭金紅%穆啟道
하감%고자기%리빙%정금홍%목계도
193 nm浸没式光刻%浸没液体%顶部涂料%光刻胶
193 nm浸沒式光刻%浸沒液體%頂部塗料%光刻膠
193 nm침몰식광각%침몰액체%정부도료%광각효
介绍了193 nm浸没式光刻技术的兴起和面临的挑战.在所涉及的材料方面,对第一代、第二代及第三代的浸没液体进行了介绍,对顶部涂料的类型及其应用进行了归纳概述.并对顶部涂料存在的问题进行了阐述.对光刻胶材料中涉及的产酸剂、主体树脂及光刻胶应用方面进行了综述,并重点描述了无须顶部涂层的光刻胶,最后对193 nm浸没式光刻材料发展趋势作了展望.
介紹瞭193 nm浸沒式光刻技術的興起和麵臨的挑戰.在所涉及的材料方麵,對第一代、第二代及第三代的浸沒液體進行瞭介紹,對頂部塗料的類型及其應用進行瞭歸納概述.併對頂部塗料存在的問題進行瞭闡述.對光刻膠材料中涉及的產痠劑、主體樹脂及光刻膠應用方麵進行瞭綜述,併重點描述瞭無鬚頂部塗層的光刻膠,最後對193 nm浸沒式光刻材料髮展趨勢作瞭展望.
개소료193 nm침몰식광각기술적흥기화면림적도전.재소섭급적재료방면,대제일대、제이대급제삼대적침몰액체진행료개소,대정부도료적류형급기응용진행료귀납개술.병대정부도료존재적문제진행료천술.대광각효재료중섭급적산산제、주체수지급광각효응용방면진행료종술,병중점묘술료무수정부도층적광각효,최후대193 nm침몰식광각재료발전추세작료전망.
