材料开发与应用
材料開髮與應用
재료개발여응용
DEVELOPMENT AND APPLICATION OF MATERIALS
2009年
3期
1-3,7
,共4页
张雪凤%潘震%王政红%邢朋飞
張雪鳳%潘震%王政紅%邢朋飛
장설봉%반진%왕정홍%형붕비
电弧气化法%纳米%ITO粉%ITO靶
電弧氣化法%納米%ITO粉%ITO靶
전호기화법%납미%ITO분%ITO파
以纯度为99.99%的纯金属In和Sn为原料,采用电弧气化法制备了单一立方In2O3结构的纳米ITO合金粉末,所制备的粉末以四方和类球形两种形貌存在,粒度主要位于30～70nm,分散性良好;并在此基础上采用常压烧结制备了相对密度高达99.74%,平均电阻率达到1.52×10-4Ω·cm,结构成份均匀,晶粒尺寸5～10μm左右的超高密度ITO靶材.
以純度為99.99%的純金屬In和Sn為原料,採用電弧氣化法製備瞭單一立方In2O3結構的納米ITO閤金粉末,所製備的粉末以四方和類毬形兩種形貌存在,粒度主要位于30～70nm,分散性良好;併在此基礎上採用常壓燒結製備瞭相對密度高達99.74%,平均電阻率達到1.52×10-4Ω·cm,結構成份均勻,晶粒呎吋5～10μm左右的超高密度ITO靶材.
이순도위99.99%적순금속In화Sn위원료,채용전호기화법제비료단일립방In2O3결구적납미ITO합금분말,소제비적분말이사방화류구형량충형모존재,립도주요위우30～70nm,분산성량호;병재차기출상채용상압소결제비료상대밀도고체99.74%,평균전조솔체도1.52×10-4Ω·cm,결구성빈균균,정립척촌5～10μm좌우적초고밀도ITO파재.
