功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2010年
4期
316-322
,共7页
程铁栋%杨丽荣%唐新桂%易见兵
程鐵棟%楊麗榮%唐新桂%易見兵
정철동%양려영%당신계%역견병
PSrTS0薄膜%介电常数%漏电流%Pool-Frenkel发射
PSrTS0薄膜%介電常數%漏電流%Pool-Frenkel髮射
PSrTS0박막%개전상수%루전류%Pool-Frenkel발사
用sol-gel方法在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备了具有LaNiO3(LNO)缓冲层的(Pb0.5Sr0.5)TiO3(PSrT50)/LNO/Pt异质结构铁电薄膜.X射线分析发现PSrT50薄膜在(100)方向高度取向,同时扫描电镜图像显示薄膜结构致密、表面平整.通过和直接在Pt上制备的、相同厚度的PSrT50薄膜比较,PSrT50/LNO/Pt结构薄膜在室温下具有更大的剩余极化(Pr=4.5 μC/cm2)和更高的介电常数(εr=850).同时,漏电流机理分析表明,PSrT50/LNO/Pt结构薄膜在低电场作用下呈现Pool-Frenkel发射效应,在高电场作用下则表现为空间电荷限制电流.
用sol-gel方法在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)襯底上製備瞭具有LaNiO3(LNO)緩遲層的(Pb0.5Sr0.5)TiO3(PSrT50)/LNO/Pt異質結構鐵電薄膜.X射線分析髮現PSrT50薄膜在(100)方嚮高度取嚮,同時掃描電鏡圖像顯示薄膜結構緻密、錶麵平整.通過和直接在Pt上製備的、相同厚度的PSrT50薄膜比較,PSrT50/LNO/Pt結構薄膜在室溫下具有更大的剩餘極化(Pr=4.5 μC/cm2)和更高的介電常數(εr=850).同時,漏電流機理分析錶明,PSrT50/LNO/Pt結構薄膜在低電場作用下呈現Pool-Frenkel髮射效應,在高電場作用下則錶現為空間電荷限製電流.
용sol-gel방법재Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)츤저상제비료구유LaNiO3(LNO)완충층적(Pb0.5Sr0.5)TiO3(PSrT50)/LNO/Pt이질결구철전박막.X사선분석발현PSrT50박막재(100)방향고도취향,동시소묘전경도상현시박막결구치밀、표면평정.통과화직접재Pt상제비적、상동후도적PSrT50박막비교,PSrT50/LNO/Pt결구박막재실온하구유경대적잉여겁화(Pr=4.5 μC/cm2)화경고적개전상수(εr=850).동시,루전류궤리분석표명,PSrT50/LNO/Pt결구박막재저전장작용하정현Pool-Frenkel발사효응,재고전장작용하칙표현위공간전하한제전류.
