河南师范大学学报（自然科学版）
河南師範大學學報（自然科學版）
하남사범대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF HENAN NORMAL UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE)
2011年
3期
36-39
,共4页
王天兴%夏存军%牵超%李苗苗%杨海刚%宋桂林%常方高
王天興%夏存軍%牽超%李苗苗%楊海剛%宋桂林%常方高
왕천흥%하존군%견초%리묘묘%양해강%송계림%상방고
直流磁控溅射%溅射Ar气压强%溅射功率%表面形貌%导电性
直流磁控濺射%濺射Ar氣壓彊%濺射功率%錶麵形貌%導電性
직류자공천사%천사Ar기압강%천사공솔%표면형모%도전성
采用直流磁控溅射的方法在普通玻璃衬底上沉积Mo薄膜,研究了工作压强、溅射功率对Mo薄膜的电学性能、表面形貌的影响.实验表明,在我们所使用的压强范围内(O.2～2.O Pa),溅射压强低时,沉积速率较快,制备出的薄膜导电性能亦较好;O.4 Pa时达到最佳值,电阻率为1.22×10-4Ω·cm,且扫描电镜(SEM)图显示薄膜具有致密、平整的表面形貌;在压强固定时(O.2 Pa),沉积速率随溅射功率(50～150 W)基本呈线性增加,且随溅射功率的增加,制备的Mo薄膜更加致密,显示出连续降低的电阻率;148 W时,电阻率为7.6×10-5Ω·cm.
採用直流磁控濺射的方法在普通玻璃襯底上沉積Mo薄膜,研究瞭工作壓彊、濺射功率對Mo薄膜的電學性能、錶麵形貌的影響.實驗錶明,在我們所使用的壓彊範圍內(O.2～2.O Pa),濺射壓彊低時,沉積速率較快,製備齣的薄膜導電性能亦較好;O.4 Pa時達到最佳值,電阻率為1.22×10-4Ω·cm,且掃描電鏡(SEM)圖顯示薄膜具有緻密、平整的錶麵形貌;在壓彊固定時(O.2 Pa),沉積速率隨濺射功率(50～150 W)基本呈線性增加,且隨濺射功率的增加,製備的Mo薄膜更加緻密,顯示齣連續降低的電阻率;148 W時,電阻率為7.6×10-5Ω·cm.
채용직류자공천사적방법재보통파리츤저상침적Mo박막,연구료공작압강、천사공솔대Mo박막적전학성능、표면형모적영향.실험표명,재아문소사용적압강범위내(O.2～2.O Pa),천사압강저시,침적속솔교쾌,제비출적박막도전성능역교호;O.4 Pa시체도최가치,전조솔위1.22×10-4Ω·cm,차소묘전경(SEM)도현시박막구유치밀、평정적표면형모;재압강고정시(O.2 Pa),침적속솔수천사공솔(50～150 W)기본정선성증가,차수천사공솔적증가,제비적Mo박막경가치밀,현시출련속강저적전조솔;148 W시,전조솔위7.6×10-5Ω·cm.
