光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2001年
6期
673-675
,共3页
磁控溅射%Cu/Ti超晶格膜%紫外光%反射率
磁控濺射%Cu/Ti超晶格膜%紫外光%反射率
자공천사%Cu/Ti초정격막%자외광%반사솔
采用直流磁控溅射方法制备了一维二组元Cu/Ti周期超晶格金属薄膜，研究了基片温度、膜周期数、基片取向与紫外反射的关系。当基片加热温度为470 ℃时，在硅（100）晶面上生长的30层Cu/Ti膜，层间膜厚控制在1∶3、膜总厚度控制为300 nm时，所制备的超晶格薄膜在5°入射角下对200nm的紫外光,其反射率可高达90%。
採用直流磁控濺射方法製備瞭一維二組元Cu/Ti週期超晶格金屬薄膜，研究瞭基片溫度、膜週期數、基片取嚮與紫外反射的關繫。噹基片加熱溫度為470 ℃時，在硅（100）晶麵上生長的30層Cu/Ti膜，層間膜厚控製在1∶3、膜總厚度控製為300 nm時，所製備的超晶格薄膜在5°入射角下對200nm的紫外光,其反射率可高達90%。
채용직류자공천사방법제비료일유이조원Cu/Ti주기초정격금속박막，연구료기편온도、막주기수、기편취향여자외반사적관계。당기편가열온도위470 ℃시，재규（100）정면상생장적30층Cu/Ti막，층간막후공제재1∶3、막총후도공제위300 nm시，소제비적초정격박막재5°입사각하대200nm적자외광,기반사솔가고체90%。
