核技术
覈技術
핵기술
NUCLEAR TECHNIQUES
2005年
6期
424-429
,共6页
刘天伟%董闯%邓新禄%陈曦
劉天偉%董闖%鄧新祿%陳晞
류천위%동틈%산신록%진희
等离子体增强沉积%非平衡磁控溅射%ZrN薄膜%偏压
等離子體增彊沉積%非平衡磁控濺射%ZrN薄膜%偏壓
등리자체증강침적%비평형자공천사%ZrN박막%편압
利用ECR-微波等离子溅射沉积技术加不同偏压在45钢基体上制备了ZrN薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、透射电子显微镜(TEM)对薄膜的微观组织结构进行了分析.结果表明,无偏压时薄膜为非晶膜,随着偏压的升高,薄膜呈ZrN晶体结构.利用扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)测试了薄膜表面形貌.薄膜表面平整,但仍存在局部缺陷;粗糙度(RMS)在0.311-0.811nm之间变化,轮廓算术平均值(Ra)在0.239-0.629 nm之间变化.同时利用电化学极化实验在0.5 mol/L NaCl溶液中测试了基体及薄膜的耐蚀性能,基体自腐蚀电位Ecorr为-512.3 mV,样品Ecorr在-400.3--482.6 mV之间变化,45#钢基体自腐蚀电流Icorr为9.036 μA,样品Icorr在0.142-0.694μA之间变化.并讨论了偏压对薄膜的微观组织和耐蚀性能产生影响的原因.
利用ECR-微波等離子濺射沉積技術加不同偏壓在45鋼基體上製備瞭ZrN薄膜.利用X射線衍射儀(XRD)、透射電子顯微鏡(TEM)對薄膜的微觀組織結構進行瞭分析.結果錶明,無偏壓時薄膜為非晶膜,隨著偏壓的升高,薄膜呈ZrN晶體結構.利用掃描電鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)測試瞭薄膜錶麵形貌.薄膜錶麵平整,但仍存在跼部缺陷;粗糙度(RMS)在0.311-0.811nm之間變化,輪廓算術平均值(Ra)在0.239-0.629 nm之間變化.同時利用電化學極化實驗在0.5 mol/L NaCl溶液中測試瞭基體及薄膜的耐蝕性能,基體自腐蝕電位Ecorr為-512.3 mV,樣品Ecorr在-400.3--482.6 mV之間變化,45#鋼基體自腐蝕電流Icorr為9.036 μA,樣品Icorr在0.142-0.694μA之間變化.併討論瞭偏壓對薄膜的微觀組織和耐蝕性能產生影響的原因.
이용ECR-미파등리자천사침적기술가불동편압재45강기체상제비료ZrN박막.이용X사선연사의(XRD)、투사전자현미경(TEM)대박막적미관조직결구진행료분석.결과표명,무편압시박막위비정막,수착편압적승고,박막정ZrN정체결구.이용소묘전경(SEM)、원자력현미경(AFM)측시료박막표면형모.박막표면평정,단잉존재국부결함;조조도(RMS)재0.311-0.811nm지간변화,륜곽산술평균치(Ra)재0.239-0.629 nm지간변화.동시이용전화학겁화실험재0.5 mol/L NaCl용액중측시료기체급박막적내식성능,기체자부식전위Ecorr위-512.3 mV,양품Ecorr재-400.3--482.6 mV지간변화,45#강기체자부식전류Icorr위9.036 μA,양품Icorr재0.142-0.694μA지간변화.병토론료편압대박막적미관조직화내식성능산생영향적원인.
