真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2008年
6期
561-565
,共5页
高k氧化物%表面和界面化学组分%xPs
高k氧化物%錶麵和界麵化學組分%xPs
고k양화물%표면화계면화학조분%xPs
利用X线光电子能谱方法对si基Er2O3外延薄膜的化学组分进行了分析.在X射线照射样品和氩离子轰击使样品减薄的过程中没有诱发其他的化学反应.研究了清洁的si和有氧化层的si衬底上外延生长的Er2O3薄膜的表面和界面化学组分情况,并对上述两种不同的衬底上外延生长Er203薄膜的生长模式进行初步探讨.
利用X線光電子能譜方法對si基Er2O3外延薄膜的化學組分進行瞭分析.在X射線照射樣品和氬離子轟擊使樣品減薄的過程中沒有誘髮其他的化學反應.研究瞭清潔的si和有氧化層的si襯底上外延生長的Er2O3薄膜的錶麵和界麵化學組分情況,併對上述兩種不同的襯底上外延生長Er203薄膜的生長模式進行初步探討.
이용X선광전자능보방법대si기Er2O3외연박막적화학조분진행료분석.재X사선조사양품화아리자굉격사양품감박적과정중몰유유발기타적화학반응.연구료청길적si화유양화층적si츤저상외연생장적Er2O3박막적표면화계면화학조분정황,병대상술량충불동적츤저상외연생장Er203박막적생장모식진행초보탐토.
