利用Langmuir技术构筑的光抗蚀剂聚合物纳米薄膜的表面微观结构及在光刻蚀方面的应用(Ⅱ):用深紫外诱导的含缩酮共聚物的光刻和光化学反应
이용Langmuir기술구축적광항식제취합물납미박막적표면미관결구급재광각식방면적응용(Ⅱ):용심자외유도적함축동공취물적광각화광화학반응
Molecular Arrangements and Photopatterning of Polymer Photoresists in Ultrathin Nanosheets by Langmuir Technique (Ⅱ): Photolithography and Photoreaction of Copolymer Containing Ketal-protected Group Induced by Deep UV Irradiation
  • 万方数据
    中州大学学报 중주대학학보
    JOURNAL OF ZHONGZHOU UNIVERSITY
    2009年 4期 108-112 ,共5页

    许文俭%宁建中%付鸿%李铁生%吴养洁

    허문검%저건중%부홍%리철생%오양길

    光化学%Langmuir-Blodgett(LB)膜%光分解%光刻 光化學%Langmuir-Blodgett(LB)膜%光分解%光刻
    광화학%Langmuir-Blodgett(LB)막%광분해%광각
    、除去抗蚀层等工序,可将抗蚀剂图形较好地转移到金薄膜上,得到具有相同分辨率的金属金的转移图形.
    、제거항식층등공서,가장항식제도형교호지전이도금박막상,득도구유상동분변솔적금속금적전이도형.
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