科学技术与工程
科學技術與工程
과학기술여공정
SCIENCE TECHNOLOGY AND ENGINEERING
2012年
17期
4069-4072
,共4页
氧化钒薄膜%磁控溅射%氧化过程
氧化釩薄膜%磁控濺射%氧化過程
양화범박막%자공천사%양화과정
采用直流溅射法在石英衬底上沉积不同厚度的金属钒(V)膜,在空气氛围中进行不同温度热氧化处理获得性能最佳的退火温度和薄膜厚度.用x射线衍射仪(XRD),傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)和X射线光电子能谱仪分别研究了薄膜的晶体结构,红外透射性和表面组分.结果表明:厚度约为100nm的金属钒膜在空气中370.C下氧化60 min制得VO2含量较高,相变温度45℃,热滞宽度约10℃,高低温光透过率变化41％的氧化钒薄膜.
採用直流濺射法在石英襯底上沉積不同厚度的金屬釩(V)膜,在空氣氛圍中進行不同溫度熱氧化處理穫得性能最佳的退火溫度和薄膜厚度.用x射線衍射儀(XRD),傅裏葉變換紅外光譜儀(FT-IR)和X射線光電子能譜儀分彆研究瞭薄膜的晶體結構,紅外透射性和錶麵組分.結果錶明:厚度約為100nm的金屬釩膜在空氣中370.C下氧化60 min製得VO2含量較高,相變溫度45℃,熱滯寬度約10℃,高低溫光透過率變化41％的氧化釩薄膜.
채용직류천사법재석영츤저상침적불동후도적금속범(V)막,재공기분위중진행불동온도열양화처리획득성능최가적퇴화온도화박막후도.용x사선연사의(XRD),부리협변환홍외광보의(FT-IR)화X사선광전자능보의분별연구료박막적정체결구,홍외투사성화표면조분.결과표명:후도약위100nm적금속범막재공기중370.C하양화60 min제득VO2함량교고,상변온도45℃,열체관도약10℃,고저온광투과솔변화41％적양화범박막.
