电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2011年
6期
13-15,19
,共4页
卜路霞%石军%朱华玲%尉震
蔔路霞%石軍%硃華玲%尉震
복로하%석군%주화령%위진
Ni-SiO2纳米微粒复合镀层%电沉积%耐蚀性%制备
Ni-SiO2納米微粒複閤鍍層%電沉積%耐蝕性%製備
Ni-SiO2납미미립복합도층%전침적%내식성%제비
采用控电流电沉积技术以铜为基体制备了Ni-SiO2纳米微粒复合镀层.通过改变镀液中SiO2纳米微粒的质量浓度,考察了其对镀层中SiO2微粒的质量分数、电沉积速率及镀层耐蚀性能的影响,对纯镍镀层与Ni-SiO2纳米微粒复合镀层的耐蚀性进行了比较.研究了阴极电流密度对复合镀层耐蚀性能的影响,并采用扫描电子显微镜对镀层形貌进行了分析.结果表明,通过改变ρ(SiO2),可以调节Ni-SiO2复合镀层的组成、电沉积速率和耐蚀性能.当ρ(SiO2)为10～15g/L且电流密度为1A/dm2时,复合镀层具有较好的耐蚀性能.相对于纯镍镀层,Ni-SiO2纳米微粒复合镀层具有更好的耐蚀性,其表面更致密、平整.
採用控電流電沉積技術以銅為基體製備瞭Ni-SiO2納米微粒複閤鍍層.通過改變鍍液中SiO2納米微粒的質量濃度,攷察瞭其對鍍層中SiO2微粒的質量分數、電沉積速率及鍍層耐蝕性能的影響,對純鎳鍍層與Ni-SiO2納米微粒複閤鍍層的耐蝕性進行瞭比較.研究瞭陰極電流密度對複閤鍍層耐蝕性能的影響,併採用掃描電子顯微鏡對鍍層形貌進行瞭分析.結果錶明,通過改變ρ(SiO2),可以調節Ni-SiO2複閤鍍層的組成、電沉積速率和耐蝕性能.噹ρ(SiO2)為10～15g/L且電流密度為1A/dm2時,複閤鍍層具有較好的耐蝕性能.相對于純鎳鍍層,Ni-SiO2納米微粒複閤鍍層具有更好的耐蝕性,其錶麵更緻密、平整.
채용공전류전침적기술이동위기체제비료Ni-SiO2납미미립복합도층.통과개변도액중SiO2납미미립적질량농도,고찰료기대도층중SiO2미립적질량분수、전침적속솔급도층내식성능적영향,대순얼도층여Ni-SiO2납미미립복합도층적내식성진행료비교.연구료음겁전류밀도대복합도층내식성능적영향,병채용소묘전자현미경대도층형모진행료분석.결과표명,통과개변ρ(SiO2),가이조절Ni-SiO2복합도층적조성、전침적속솔화내식성능.당ρ(SiO2)위10～15g/L차전류밀도위1A/dm2시,복합도층구유교호적내식성능.상대우순얼도층,Ni-SiO2납미미립복합도층구유경호적내식성,기표면경치밀、평정.
