光散射学报
光散射學報
광산사학보
CHINESE JOURNAL OF LIGHT SCATTERING
2007年
4期
363-368
,共6页
MEMS%SU-8光胶%XPS谱%FT-IR谱
MEMS%SU-8光膠%XPS譜%FT-IR譜
MEMS%SU-8광효%XPS보%FT-IR보
SU-8光胶因具有良好的光刻性能,并可获得稳定的高深宽比而在微加工领域得到了广泛的应用.众多研究采用不同的光源对其进行了多种光刻研究,本文应用355nm激光对SU-8胶进行曝光,分别采用XPS谱和FT-IR谱分析了SU-8胶与激光相互作用过程中,355nm激光对SU-8胶的作用以及反应前后主要成分含量、分子结构的变化,初步探讨了SU-8胶中激光曝光能量与透入深度的关系.
SU-8光膠因具有良好的光刻性能,併可穫得穩定的高深寬比而在微加工領域得到瞭廣汎的應用.衆多研究採用不同的光源對其進行瞭多種光刻研究,本文應用355nm激光對SU-8膠進行曝光,分彆採用XPS譜和FT-IR譜分析瞭SU-8膠與激光相互作用過程中,355nm激光對SU-8膠的作用以及反應前後主要成分含量、分子結構的變化,初步探討瞭SU-8膠中激光曝光能量與透入深度的關繫.
SU-8광효인구유량호적광각성능,병가획득은정적고심관비이재미가공영역득도료엄범적응용.음다연구채용불동적광원대기진행료다충광각연구,본문응용355nm격광대SU-8효진행폭광,분별채용XPS보화FT-IR보분석료SU-8효여격광상호작용과정중,355nm격광대SU-8효적작용이급반응전후주요성분함량、분자결구적변화,초보탐토료SU-8효중격광폭광능량여투입심도적관계.
