表面技术
錶麵技術
표면기술
SURFACE TECHNOLOGY
2012年
2期
109-112
,共4页
郑晓峰%曾其勇%李柱%吴凯%朱明
鄭曉峰%曾其勇%李柱%吳凱%硃明
정효봉%증기용%리주%오개%주명
薄膜热电偶%正交试验%极差分析%薄膜附着力
薄膜熱電偶%正交試驗%極差分析%薄膜附著力
박막열전우%정교시험%겁차분석%박막부착력
采用磁控溅射法制备NiCr-NiSi薄膜,以溅射功率、溅射时间、溅射气压及基片负偏压作为四因素进行正交试验,制备了9种性能不同的NiCr-NiSi薄膜热电偶测温刀头,对每片测温刀头上薄膜与刀体之间的附着力进行了测试,并对测试结果进行了极差分析.分析结果表明:在4个溅射因素当中,基片负偏压是影响薄膜附着力大小的最主要因素,在一定范围内,增大基片的负偏压值可提高薄膜的附着力.验证试验表明,NiCr薄膜溅射参数为溅射功率90 W、溅射时间30 min、溅射气压0.45 Pa、基片偏压-110 V,NiSi薄膜溅射参数为溅射功率100 W、溅射时间40 min、溅射气压0.4 Pa、基片偏压-110 V,可使NiCr和NiSi薄膜的附着力值分别约增大3.2N和1.5N.
採用磁控濺射法製備NiCr-NiSi薄膜,以濺射功率、濺射時間、濺射氣壓及基片負偏壓作為四因素進行正交試驗,製備瞭9種性能不同的NiCr-NiSi薄膜熱電偶測溫刀頭,對每片測溫刀頭上薄膜與刀體之間的附著力進行瞭測試,併對測試結果進行瞭極差分析.分析結果錶明:在4箇濺射因素噹中,基片負偏壓是影響薄膜附著力大小的最主要因素,在一定範圍內,增大基片的負偏壓值可提高薄膜的附著力.驗證試驗錶明,NiCr薄膜濺射參數為濺射功率90 W、濺射時間30 min、濺射氣壓0.45 Pa、基片偏壓-110 V,NiSi薄膜濺射參數為濺射功率100 W、濺射時間40 min、濺射氣壓0.4 Pa、基片偏壓-110 V,可使NiCr和NiSi薄膜的附著力值分彆約增大3.2N和1.5N.
채용자공천사법제비NiCr-NiSi박막,이천사공솔、천사시간、천사기압급기편부편압작위사인소진행정교시험,제비료9충성능불동적NiCr-NiSi박막열전우측온도두,대매편측온도두상박막여도체지간적부착력진행료측시,병대측시결과진행료겁차분석.분석결과표명:재4개천사인소당중,기편부편압시영향박막부착력대소적최주요인소,재일정범위내,증대기편적부편압치가제고박막적부착력.험증시험표명,NiCr박막천사삼수위천사공솔90 W、천사시간30 min、천사기압0.45 Pa、기편편압-110 V,NiSi박막천사삼수위천사공솔100 W、천사시간40 min、천사기압0.4 Pa、기편편압-110 V,가사NiCr화NiSi박막적부착력치분별약증대3.2N화1.5N.
