CAJ | 학술논문

采用离子束溅射沉积法,在单晶Si基片上制备了不同厚度(1 nm～100 nm)的Co纳米薄膜.利用原子力显微镜和X射线光电子能谱仪对不同厚度的Co纳米薄膜的表面进行了分析和研究.结果表明:当薄膜厚度为1 nm～10 nm时,沉积颗粒形态随着薄膜厚度的增加将由二维生长的细长胞状过渡到多个颗粒聚集成的球状;当膜厚继续增加,小颗粒球消失,集结成大颗粒球,颗粒球呈现三维生长状态;表面粗糙度随着膜厚(膜厚为1 nm～10 nm)的增大,呈现先增加后减小的趋势,在膜厚为3 nm时出现极值.通过XPS全程宽扫描和窄扫描,薄膜表面的元素成分为Co:主要以金属Co和Co氧化物的形式存在.
채용리자속천사침적법,재단정Si기편상제비료불동후도(1 nm～100 nm)적Co납미박막.이용원자력현미경화X사선광전자능보의대불동후도적Co납미박막적표면진행료분석화연구.결과표명:당박막후도위1 nm～10 nm시,침적과립형태수착박막후도적증가장유이유생장적세장포상과도도다개과립취집성적구상;당막후계속증가,소과립구소실,집결성대과립구,과립구정현삼유생장상태;표면조조도수착막후(막후위1 nm～10 nm)적증대,정현선증가후감소적추세,재막후위3 nm시출현겁치.통과XPS전정관소묘화착소묘,박막표면적원소성분위Co:주요이금속Co화Co양화물적형식존재.