材料导报
材料導報
재료도보
MATERIALS REVIEW
2006年
7期
123-125
,共3页
朱慧群%丁瑞钦%姚若河%吴桐庆
硃慧群%丁瑞欽%姚若河%吳桐慶
주혜군%정서흠%요약하%오동경
射频磁控溅射%ZnO薄膜%离子束轰击%衬底表面氮化
射頻磁控濺射%ZnO薄膜%離子束轟擊%襯底錶麵氮化
사빈자공천사%ZnO박막%리자속굉격%츤저표면담화
采用射频磁控溅射法在抛光硅片上沉积了一系列ZnO薄膜样品.通过对薄膜样品X射线衍射谱的分析、原子力显微图的观察、吸收光谱和荧光光谱的研究,发现Si衬底的离子束表面氮化对ZnO薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性质有重要影响.在衬底温度为200℃、高纯氩氧比例为3:1、压强为1.5Pa的条件下,在经离子束表面氮化预处理的Si衬底上溅射沉积的ZnO薄膜,经450℃真空退火,成为高(0002)晶面取向的ZnO薄膜,并具有良好的光学性质.
採用射頻磁控濺射法在拋光硅片上沉積瞭一繫列ZnO薄膜樣品.通過對薄膜樣品X射線衍射譜的分析、原子力顯微圖的觀察、吸收光譜和熒光光譜的研究,髮現Si襯底的離子束錶麵氮化對ZnO薄膜的晶體結構、錶麵形貌和光學性質有重要影響.在襯底溫度為200℃、高純氬氧比例為3:1、壓彊為1.5Pa的條件下,在經離子束錶麵氮化預處理的Si襯底上濺射沉積的ZnO薄膜,經450℃真空退火,成為高(0002)晶麵取嚮的ZnO薄膜,併具有良好的光學性質.
채용사빈자공천사법재포광규편상침적료일계렬ZnO박막양품.통과대박막양품X사선연사보적분석、원자력현미도적관찰、흡수광보화형광광보적연구,발현Si츤저적리자속표면담화대ZnO박막적정체결구、표면형모화광학성질유중요영향.재츤저온도위200℃、고순아양비례위3:1、압강위1.5Pa적조건하,재경리자속표면담화예처리적Si츤저상천사침적적ZnO박막,경450℃진공퇴화,성위고(0002)정면취향적ZnO박막,병구유량호적광학성질.
