材料研究学报
材料研究學報
재료연구학보
CHINESE JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH
2006年
6期
647-652
,共6页
赵洪力%刘起英%韩冰%蔡永秀%荆天辅%张福成
趙洪力%劉起英%韓冰%蔡永秀%荊天輔%張福成
조홍력%류기영%한빙%채영수%형천보%장복성
无机非金属材料%浮法玻璃%在线镀膜%双层复合膜%化学气相沉积%阳光控制镀膜
無機非金屬材料%浮法玻璃%在線鍍膜%雙層複閤膜%化學氣相沉積%暘光控製鍍膜
무궤비금속재료%부법파리%재선도막%쌍층복합막%화학기상침적%양광공제도막
分别采用电化学方法和化学气相沉积法对生产线锡槽和退火窑内的浮法玻璃两次镀膜,制备出具有阳光控制功能的双层彩色浮法玻璃,采用分光光度计、扫描电镜、能谱仪、透射电镜、原子力显微镜和二次离子质谱等方法分析了复合镀膜样品的形貌、结构,研究了不同深度的膜层成分和性能.结果表明,可见光透射比与硅烷浓度和电流强度之间有强烈依赖性;上层的硅膜表面均匀平整,表面粗糙度约9.66 nm,团粒尺寸约100 nm,其厚度约70～78 nm,且沿厚度方向呈梯度化氧化;底层膜中铜和铋的扩散深度约10μm.
分彆採用電化學方法和化學氣相沉積法對生產線錫槽和退火窯內的浮法玻璃兩次鍍膜,製備齣具有暘光控製功能的雙層綵色浮法玻璃,採用分光光度計、掃描電鏡、能譜儀、透射電鏡、原子力顯微鏡和二次離子質譜等方法分析瞭複閤鍍膜樣品的形貌、結構,研究瞭不同深度的膜層成分和性能.結果錶明,可見光透射比與硅烷濃度和電流彊度之間有彊烈依賴性;上層的硅膜錶麵均勻平整,錶麵粗糙度約9.66 nm,糰粒呎吋約100 nm,其厚度約70～78 nm,且沿厚度方嚮呈梯度化氧化;底層膜中銅和鉍的擴散深度約10μm.
분별채용전화학방법화화학기상침적법대생산선석조화퇴화요내적부법파리량차도막,제비출구유양광공제공능적쌍층채색부법파리,채용분광광도계、소묘전경、능보의、투사전경、원자력현미경화이차리자질보등방법분석료복합도막양품적형모、결구,연구료불동심도적막층성분화성능.결과표명,가견광투사비여규완농도화전류강도지간유강렬의뢰성;상층적규막표면균균평정,표면조조도약9.66 nm,단립척촌약100 nm,기후도약70～78 nm,차연후도방향정제도화양화;저층막중동화필적확산심도약10μm.
