硅酸盐学报
硅痠鹽學報
규산염학보
JOURNAL OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY
1999年
3期
365-369
,共5页
余京松%钱晓倩%马青松%葛曼珍%孟祥森%杨辉
餘京鬆%錢曉倩%馬青鬆%葛曼珍%孟祥森%楊輝
여경송%전효천%마청송%갈만진%맹상삼%양휘
氧氮玻璃%氧氮化硅%薄膜%常压化学气相沉积%表面改性
氧氮玻璃%氧氮化硅%薄膜%常壓化學氣相沉積%錶麵改性
양담파리%양담화규%박막%상압화학기상침적%표면개성
在660 ℃下以SiH4-NH3-CO2作为反应气体利用常压CVD(APCVD)设备沉积得到了氧氮玻璃薄膜. 此温度比文献报道的APCVD法低200 ℃以上,有效地降低了沉积温度. 实验发现NH3中水汽对沉积反应的显著影响. 初步研究表明:运用APCVD法将这种薄膜应用于普通钠钙硅玻璃的表面改性,可使镀膜玻璃的表面硬度比退火玻璃提高了50%以上.
在660 ℃下以SiH4-NH3-CO2作為反應氣體利用常壓CVD(APCVD)設備沉積得到瞭氧氮玻璃薄膜. 此溫度比文獻報道的APCVD法低200 ℃以上,有效地降低瞭沉積溫度. 實驗髮現NH3中水汽對沉積反應的顯著影響. 初步研究錶明:運用APCVD法將這種薄膜應用于普通鈉鈣硅玻璃的錶麵改性,可使鍍膜玻璃的錶麵硬度比退火玻璃提高瞭50%以上.
재660 ℃하이SiH4-NH3-CO2작위반응기체이용상압CVD(APCVD)설비침적득도료양담파리박막. 차온도비문헌보도적APCVD법저200 ℃이상,유효지강저료침적온도. 실험발현NH3중수기대침적반응적현저영향. 초보연구표명:운용APCVD법장저충박막응용우보통납개규파리적표면개성,가사도막파리적표면경도비퇴화파리제고료50%이상.
