光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2011年
1期
1-4
,共4页
伍和云%吴永刚%王振华%吕刚%凌磊婕%夏子奂%陈乃波
伍和雲%吳永剛%王振華%呂剛%凌磊婕%夏子奐%陳迺波
오화운%오영강%왕진화%려강%릉뢰첩%하자환%진내파
自支撑薄膜%软X射线%脱模剂%磁控溅射%同步辐射
自支撐薄膜%軟X射線%脫模劑%磁控濺射%同步輻射
자지탱박막%연X사선%탈모제%자공천사%동보복사
软X射线波段滤光膜材料大都为自支撑金属薄膜,实验室环境下自支撑薄膜长期与空气接触表面易氧化,空气中的杂质原子进入自支撑薄膜内部,致使自支撑膜光学性能大幅下降.5 nm至20 nm软X射线波段Zr具有较低的质量吸收系数和较小的密度,在该波段Zr滤光膜透过率较高.采用脱模剂法制备自支撑Zr膜,在洁净的浮法玻璃上蒸镀一层NaCl做为脱膜剂,直流磁控溅射沉积Zr膜,脱膜后的到自支撑Zr膜.为防止薄膜表面氧化及空气中杂质原子进入薄膜内部,在Zr膜两面各直流磁控溅射沉积一层10 nm厚的C或Si膜作为保护膜,得到C/Zr/C、Si/Zr/Si复合膜,测试结果显示C或Si膜的引入对于自支撑Zr膜光学性能基本无影响.
軟X射線波段濾光膜材料大都為自支撐金屬薄膜,實驗室環境下自支撐薄膜長期與空氣接觸錶麵易氧化,空氣中的雜質原子進入自支撐薄膜內部,緻使自支撐膜光學性能大幅下降.5 nm至20 nm軟X射線波段Zr具有較低的質量吸收繫數和較小的密度,在該波段Zr濾光膜透過率較高.採用脫模劑法製備自支撐Zr膜,在潔淨的浮法玻璃上蒸鍍一層NaCl做為脫膜劑,直流磁控濺射沉積Zr膜,脫膜後的到自支撐Zr膜.為防止薄膜錶麵氧化及空氣中雜質原子進入薄膜內部,在Zr膜兩麵各直流磁控濺射沉積一層10 nm厚的C或Si膜作為保護膜,得到C/Zr/C、Si/Zr/Si複閤膜,測試結果顯示C或Si膜的引入對于自支撐Zr膜光學性能基本無影響.
연X사선파단려광막재료대도위자지탱금속박막,실험실배경하자지탱박막장기여공기접촉표면역양화,공기중적잡질원자진입자지탱박막내부,치사자지탱막광학성능대폭하강.5 nm지20 nm연X사선파단Zr구유교저적질량흡수계수화교소적밀도,재해파단Zr려광막투과솔교고.채용탈모제법제비자지탱Zr막,재길정적부법파리상증도일층NaCl주위탈막제,직류자공천사침적Zr막,탈막후적도자지탱Zr막.위방지박막표면양화급공기중잡질원자진입박막내부,재Zr막량면각직류자공천사침적일층10 nm후적C혹Si막작위보호막,득도C/Zr/C、Si/Zr/Si복합막,측시결과현시C혹Si막적인입대우자지탱Zr막광학성능기본무영향.
