光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2008年
9期
1824-1827
,共4页
朱清锋%张海燕%陈易明%陈雨婷%陈列春%杨大勇
硃清鋒%張海燕%陳易明%陳雨婷%陳列春%楊大勇
주청봉%장해연%진역명%진우정%진렬춘%양대용
薄膜光学%定向碳纳米管薄膜%低温制备%热丝射频等离子体增强化学气相沉积%旋涂法
薄膜光學%定嚮碳納米管薄膜%低溫製備%熱絲射頻等離子體增彊化學氣相沉積%鏇塗法
박막광학%정향탄납미관박막%저온제비%열사사빈등리자체증강화학기상침적%선도법
采用热丝和射频等离子体复合化学气相沉积设备(PE-HF-CVD),以CH4、H2和N2为反应气体.在较低衬底温度下(500℃),用简单的催化剂制备方法--旋涂法在硅片上涂覆Ni(NO3)2溶液,经热处理及H2还原后的Ni颗粒为催化剂,在硅衬底上制备出了垂直于硅片且定向生长的碳纳米管薄膜.扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM)结果显示,1 mol/l的硝酸镍溶液旋涂硅片所得催化剂制得的碳纳米管管径为30～50 nm,长度超过4μm,定向性好.并用拉曼光谱(Raman)对不同摩尔浓度Ni(NO3)2溶液条件下制备的碳纳米管薄膜样品进行了表征.
採用熱絲和射頻等離子體複閤化學氣相沉積設備(PE-HF-CVD),以CH4、H2和N2為反應氣體.在較低襯底溫度下(500℃),用簡單的催化劑製備方法--鏇塗法在硅片上塗覆Ni(NO3)2溶液,經熱處理及H2還原後的Ni顆粒為催化劑,在硅襯底上製備齣瞭垂直于硅片且定嚮生長的碳納米管薄膜.掃描電子顯微鏡(SEM)和透射電子顯微鏡(TEM)結果顯示,1 mol/l的硝痠鎳溶液鏇塗硅片所得催化劑製得的碳納米管管徑為30～50 nm,長度超過4μm,定嚮性好.併用拉曼光譜(Raman)對不同摩爾濃度Ni(NO3)2溶液條件下製備的碳納米管薄膜樣品進行瞭錶徵.
채용열사화사빈등리자체복합화학기상침적설비(PE-HF-CVD),이CH4、H2화N2위반응기체.재교저츤저온도하(500℃),용간단적최화제제비방법--선도법재규편상도복Ni(NO3)2용액,경열처리급H2환원후적Ni과립위최화제,재규츤저상제비출료수직우규편차정향생장적탄납미관박막.소묘전자현미경(SEM)화투사전자현미경(TEM)결과현시,1 mol/l적초산얼용액선도규편소득최화제제득적탄납미관관경위30～50 nm,장도초과4μm,정향성호.병용랍만광보(Raman)대불동마이농도Ni(NO3)2용액조건하제비적탄납미관박막양품진행료표정.
