科学技术与工程
科學技術與工程
과학기술여공정
SCIENCE TECHNOLOGY AND ENGINEERING
2008年
20期
5563-5566
,共4页
固定图形噪声%CMOS%CCD%FD放大器%CDS电路
固定圖形譟聲%CMOS%CCD%FD放大器%CDS電路
고정도형조성%CMOS%CCD%FD방대기%CDS전로
为提高CMOS工作性能,根据CMOS像素单元的基本构成,对CMOS中引起固定图形噪声的原因进行了较完整的分析,给出了引起固定图形噪声的两个重要原因.根据引起固定图形噪声原因的各自特点,提出了两种常用的固定图形噪声处理技术,使得CMOS器件在实际应用中,为追上CCD传感器画质的性能,提供了理论基础和实践经验.
為提高CMOS工作性能,根據CMOS像素單元的基本構成,對CMOS中引起固定圖形譟聲的原因進行瞭較完整的分析,給齣瞭引起固定圖形譟聲的兩箇重要原因.根據引起固定圖形譟聲原因的各自特點,提齣瞭兩種常用的固定圖形譟聲處理技術,使得CMOS器件在實際應用中,為追上CCD傳感器畫質的性能,提供瞭理論基礎和實踐經驗.
위제고CMOS공작성능,근거CMOS상소단원적기본구성,대CMOS중인기고정도형조성적원인진행료교완정적분석,급출료인기고정도형조성적량개중요원인.근거인기고정도형조성원인적각자특점,제출료량충상용적고정도형조성처리기술,사득CMOS기건재실제응용중,위추상CCD전감기화질적성능,제공료이론기출화실천경험.