物理实验
物理實驗
물리실험
PHYSICS EXPERIMENTATION
2009年
4期
16-18,22
,共4页
高压点火%脉冲阴极弧%碳氮薄膜
高壓點火%脈遲陰極弧%碳氮薄膜
고압점화%맥충음겁호%탄담박막
采用高压点火的方式触发脉冲阴极弧放电,在Si(100)衬底上制备出较为光滑、均匀、致密的碳氮薄膜. 研究发现在不同的放电电压与距离对薄膜的沉积起到了很重要的作用. 扫描电镜及电子能谱分析表明,薄膜为非晶碳氮薄膜,并且随沉积能量的增大,氮的含量有所增大. 放电溅射过程分析与实验结果相吻合.
採用高壓點火的方式觸髮脈遲陰極弧放電,在Si(100)襯底上製備齣較為光滑、均勻、緻密的碳氮薄膜. 研究髮現在不同的放電電壓與距離對薄膜的沉積起到瞭很重要的作用. 掃描電鏡及電子能譜分析錶明,薄膜為非晶碳氮薄膜,併且隨沉積能量的增大,氮的含量有所增大. 放電濺射過程分析與實驗結果相吻閤.
채용고압점화적방식촉발맥충음겁호방전,재Si(100)츤저상제비출교위광활、균균、치밀적탄담박막. 연구발현재불동적방전전압여거리대박막적침적기도료흔중요적작용. 소묘전경급전자능보분석표명,박막위비정탄담박막,병차수침적능량적증대,담적함량유소증대. 방전천사과정분석여실험결과상문합.
