光学仪器
光學儀器
광학의기
OPTICAL INSTRUMENTS
2006年
5期
75-80
,共6页
类金刚石膜%射频等离子放电沉积%End-Hall源%边缘效应
類金剛石膜%射頻等離子放電沉積%End-Hall源%邊緣效應
류금강석막%사빈등리자방전침적%End-Hall원%변연효응
介绍了两种普遍采用的类金刚石(DLC)膜沉积方法.在此基础上叙述了采用End-Hall源沉积DLC膜的方法,在简单说明其工作原理的同时给出了实验的各项技术参数;通过对实验结果和DLC膜样品的分析,可看出用End-Hall源沉积方式能够消除RFCVD沉积方式所带来的边缘效应.
介紹瞭兩種普遍採用的類金剛石(DLC)膜沉積方法.在此基礎上敘述瞭採用End-Hall源沉積DLC膜的方法,在簡單說明其工作原理的同時給齣瞭實驗的各項技術參數;通過對實驗結果和DLC膜樣品的分析,可看齣用End-Hall源沉積方式能夠消除RFCVD沉積方式所帶來的邊緣效應.
개소료량충보편채용적류금강석(DLC)막침적방법.재차기출상서술료채용End-Hall원침적DLC막적방법,재간단설명기공작원리적동시급출료실험적각항기술삼수;통과대실험결과화DLC막양품적분석,가간출용End-Hall원침적방식능구소제RFCVD침적방식소대래적변연효응.
