发光学报
髮光學報
발광학보
CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE
2006年
6期
922-926
,共5页
ZnO薄膜%射频磁控溅射%X射线衍射%扫描电子显微镜
ZnO薄膜%射頻磁控濺射%X射線衍射%掃描電子顯微鏡
ZnO박막%사빈자공천사%X사선연사%소묘전자현미경
在SiO2/Si衬底上面,利用射频磁控溅射方法,在不同的工艺条件下生长ZnO薄膜,然后进行热处理(600～1 000 ℃退火).研究了氩氧比和退火温度对薄膜结晶性能的影响.薄膜的表面结构和晶体特性通过扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)来进行表征.结果表明:所制备的薄膜为多晶纤锌矿结构,具有垂直于衬底的c轴(002)方向的择优取向性.热处理可使ZnO(002)衍射峰相对强度增强,半峰全宽(FWHM)变小,即退火使c轴生长的薄膜取向性增强.未经退火的ZnO薄膜存在张应力,经过热处理后应力发生改变,最后变成压应力,并且随着退火温度的升高,压应力逐渐增大.
在SiO2/Si襯底上麵,利用射頻磁控濺射方法,在不同的工藝條件下生長ZnO薄膜,然後進行熱處理(600～1 000 ℃退火).研究瞭氬氧比和退火溫度對薄膜結晶性能的影響.薄膜的錶麵結構和晶體特性通過掃描電子顯微鏡(SEM)、X射線衍射(XRD)來進行錶徵.結果錶明:所製備的薄膜為多晶纖鋅礦結構,具有垂直于襯底的c軸(002)方嚮的擇優取嚮性.熱處理可使ZnO(002)衍射峰相對彊度增彊,半峰全寬(FWHM)變小,即退火使c軸生長的薄膜取嚮性增彊.未經退火的ZnO薄膜存在張應力,經過熱處理後應力髮生改變,最後變成壓應力,併且隨著退火溫度的升高,壓應力逐漸增大.
재SiO2/Si츤저상면,이용사빈자공천사방법,재불동적공예조건하생장ZnO박막,연후진행열처리(600～1 000 ℃퇴화).연구료아양비화퇴화온도대박막결정성능적영향.박막적표면결구화정체특성통과소묘전자현미경(SEM)、X사선연사(XRD)래진행표정.결과표명:소제비적박막위다정섬자광결구,구유수직우츤저적c축(002)방향적택우취향성.열처리가사ZnO(002)연사봉상대강도증강,반봉전관(FWHM)변소,즉퇴화사c축생장적박막취향성증강.미경퇴화적ZnO박막존재장응력,경과열처리후응력발생개변,최후변성압응력,병차수착퇴화온도적승고,압응력축점증대.
