CAJ | 학술논문

采用离子束溅射沉积了不同厚度的Co膜和Cu膜,利用四电极法测量了薄膜的电阻率,从而得到了Co膜和Cu膜的电导率随薄膜厚度的变化关系. 实验结果表明,Co膜和Cu膜的电学特性都具有明显的尺寸效应. 比较了同时考虑表面散射和晶界散射的电导理论得到的电导率公式与实验结果,不同薄膜厚度电导率的理论结果与实验结果符合较好. 提出了厚度作为金属薄膜生长从不连续膜进入连续膜的一个特征判据, 并利用原子力显微镜(AFM)观测了膜厚在特征厚度附近的Co膜和Cu膜的表面形貌.
채용리자속천사침적료불동후도적Co막화Cu막,이용사전겁법측량료박막적전조솔,종이득도료Co막화Cu막적전도솔수박막후도적변화관계. 실험결과표명,Co막화Cu막적전학특성도구유명현적척촌효응. 비교료동시고필표면산사화정계산사적전도이론득도적전도솔공식여실험결과,불동박막후도전도솔적이론결과여실험결과부합교호. 제출료후도작위금속박막생장종불련속막진입련속막적일개특정판거, 병이용원자력현미경(AFM)관측료막후재특정후도부근적Co막화Cu막적표면형모.