化工科技
化工科技
화공과기
SCIENCE & TECHNOLOGY IN CHEMICAL INDUSY
2009年
6期
44-47
,共4页
原位%过渡金属%WSiOx介孔分子筛
原位%過渡金屬%WSiOx介孔分子篩
원위%과도금속%WSiOx개공분자사
以阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为模板剂,正硅酸乙酯(TEOS)作为硅源,在强碱性条件下,加入过渡金属氧化物偏钨酸铵合成得到WSiOx介孔分子筛,使用乙酰丙酮作为助剂,考察其对孔结构的影响,通过X射线衍射仪(XRD)、N2吸附-脱附、原位红外(FT-IR)、扫描电镜(SEM)表征手段对合成出的WSiOx上分子筛的结构性能进行研究.随着W质量分数的增加,介孔特征衍射峰的有序度增加,质量分数大于6%后有序度下降;W的加入没有破坏介孔分子筛的骨架结构.最后的结果得到,最佳W质量分数为5%,模板剂质量分数为1.8%,乙酰丙酮质量分数为9%.平均孔径为4.68 nm,比表面积为966 m2/g.
以暘離子錶麵活性劑十六烷基三甲基溴化銨(CTAB)作為模闆劑,正硅痠乙酯(TEOS)作為硅源,在彊堿性條件下,加入過渡金屬氧化物偏鎢痠銨閤成得到WSiOx介孔分子篩,使用乙酰丙酮作為助劑,攷察其對孔結構的影響,通過X射線衍射儀(XRD)、N2吸附-脫附、原位紅外(FT-IR)、掃描電鏡(SEM)錶徵手段對閤成齣的WSiOx上分子篩的結構性能進行研究.隨著W質量分數的增加,介孔特徵衍射峰的有序度增加,質量分數大于6%後有序度下降;W的加入沒有破壞介孔分子篩的骨架結構.最後的結果得到,最佳W質量分數為5%,模闆劑質量分數為1.8%,乙酰丙酮質量分數為9%.平均孔徑為4.68 nm,比錶麵積為966 m2/g.
이양리자표면활성제십륙완기삼갑기추화안(CTAB)작위모판제,정규산을지(TEOS)작위규원,재강감성조건하,가입과도금속양화물편오산안합성득도WSiOx개공분자사,사용을선병동작위조제,고찰기대공결구적영향,통과X사선연사의(XRD)、N2흡부-탈부、원위홍외(FT-IR)、소묘전경(SEM)표정수단대합성출적WSiOx상분자사적결구성능진행연구.수착W질량분수적증가,개공특정연사봉적유서도증가,질량분수대우6%후유서도하강;W적가입몰유파배개공분자사적골가결구.최후적결과득도,최가W질량분수위5%,모판제질량분수위1.8%,을선병동질량분수위9%.평균공경위4.68 nm,비표면적위966 m2/g.
