功能材料
功能材料
공능재료
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
2011年
4期
643-645
,共3页
吴玲%赵高凌%段钢锋%汪建勋%韩高荣
吳玲%趙高凌%段鋼鋒%汪建勛%韓高榮
오령%조고릉%단강봉%왕건훈%한고영
APCVD%沉积温度%掺钒%氮化钛%结构和性能
APCVD%沉積溫度%摻釩%氮化鈦%結構和性能
APCVD%침적온도%참범%담화태%결구화성능
利用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃基板上沉积制备了钒(V)掺杂的氮化钛(TiN)薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、光电子能谱仪(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、四探针电阻仪和分光光度计等对TiN薄膜的结构、形貌、以及光电性能进行了分析.结果表明,薄膜呈典型的粒状结构.随着沉积温度的升高,薄膜的结晶强度不断增加,薄膜中V元素的比例增大,方块电阻逐渐降低.600℃时薄膜在近红外光区的反射率接近50%,在中远红外区的反射率达到93.74%,得到了兼具阳光控制功能和低辐射功能的V掺杂的TiN镀膜玻璃.
利用常壓化學氣相沉積法(APCVD)在玻璃基闆上沉積製備瞭釩(V)摻雜的氮化鈦(TiN)薄膜.利用X射線衍射儀(XRD)、光電子能譜儀(XPS)、掃描電子顯微鏡(SEM)、四探針電阻儀和分光光度計等對TiN薄膜的結構、形貌、以及光電性能進行瞭分析.結果錶明,薄膜呈典型的粒狀結構.隨著沉積溫度的升高,薄膜的結晶彊度不斷增加,薄膜中V元素的比例增大,方塊電阻逐漸降低.600℃時薄膜在近紅外光區的反射率接近50%,在中遠紅外區的反射率達到93.74%,得到瞭兼具暘光控製功能和低輻射功能的V摻雜的TiN鍍膜玻璃.
이용상압화학기상침적법(APCVD)재파리기판상침적제비료범(V)참잡적담화태(TiN)박막.이용X사선연사의(XRD)、광전자능보의(XPS)、소묘전자현미경(SEM)、사탐침전조의화분광광도계등대TiN박막적결구、형모、이급광전성능진행료분석.결과표명,박막정전형적립상결구.수착침적온도적승고,박막적결정강도불단증가,박막중V원소적비례증대,방괴전조축점강저.600℃시박막재근홍외광구적반사솔접근50%,재중원홍외구적반사솔체도93.74%,득도료겸구양광공제공능화저복사공능적V참잡적TiN도막파리.