兵器材料科学与工程
兵器材料科學與工程
병기재료과학여공정
Ordnance Material Science and Engineering
2012年
6期
22-24
,共3页
Ni-TiN%纳米镀层%电化学腐蚀
Ni-TiN%納米鍍層%電化學腐蝕
Ni-TiN%납미도층%전화학부식
分别采用电沉积法、超声波-电沉积法及电磁场-超声波场-电沉积方法制得Ni-TiN纳米镀层,利用原子力显微镜(AFM)、高分辨率透射电镜(HRTEM)及电化学综合测试仪对纳米镀层的晶体结构和耐腐蚀性能进行研究.结果表明,采用ED,USED和MUSED制备Ni-TiN纳米镀层的均方根表面粗糙度为181.74,114.65,58.18 nm; MUSED制备的镀层中,镍晶粒和TiN粒子的平均粒径为45.9,28.3 nm.
分彆採用電沉積法、超聲波-電沉積法及電磁場-超聲波場-電沉積方法製得Ni-TiN納米鍍層,利用原子力顯微鏡(AFM)、高分辨率透射電鏡(HRTEM)及電化學綜閤測試儀對納米鍍層的晶體結構和耐腐蝕性能進行研究.結果錶明,採用ED,USED和MUSED製備Ni-TiN納米鍍層的均方根錶麵粗糙度為181.74,114.65,58.18 nm; MUSED製備的鍍層中,鎳晶粒和TiN粒子的平均粒徑為45.9,28.3 nm.
분별채용전침적법、초성파-전침적법급전자장-초성파장-전침적방법제득Ni-TiN납미도층,이용원자력현미경(AFM)、고분변솔투사전경(HRTEM)급전화학종합측시의대납미도층적정체결구화내부식성능진행연구.결과표명,채용ED,USED화MUSED제비Ni-TiN납미도층적균방근표면조조도위181.74,114.65,58.18 nm; MUSED제비적도층중,얼정립화TiN입자적평균립경위45.9,28.3 nm.
