CAJ | 학술논문

在纳米光刻中,采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记.当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制,发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象,最后形成有规律、且呈一定周期分布的莫尔条纹.周期相对光栅周期被大幅度放大,条纹移动可表征两标记的相对位移,具有很高探测灵敏度,可用于纳米级高精度对准.从傅里叶光学角度分析推导了对准应用中,两频率接近的光栅重叠时莫尔条纹振幅空间近似分布规律.并设计了一组对准标记,能继续将灵敏度提高一倍.通过仿真分析,从大致上定量地验证条纹复振幅分布的近似数学模型以及光刻对准应用中的条纹对准过程.
재납미광각중,채용주기상차불대적량광책분별작위엄모화규편상적대준표기.당대준광로통과저량개표기광책시수도량차조제,발생쌍광책연사급연사광적간섭등복잡현상,최후형성유규률、차정일정주기분포적막이조문.주기상대광책주기피대폭도방대,조문이동가표정량표기적상대위이,구유흔고탐측령민도,가용우납미급고정도대준.종부리협광학각도분석추도료대준응용중,량빈솔접근적광책중첩시막이조문진폭공간근사분포규률.병설계료일조대준표기,능계속장령민도제고일배.통과방진분석,종대치상정량지험증조문복진폭분포적근사수학모형이급광각대준응용중적조문대준과정.