Si基片上掺Ge SiO2的火焰水解法制备
Si기편상참Ge SiO2적화염수해법제비
Flame Hydrolysis Deposition of Germanium Doped Silicaon Silicon Substrate
  • 万方数据
    半导体学报 반도체학보
    CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
    2004年 6期 674-677 ,共4页

    郜定山%李建光%王红杰%安俊明%李健%夏君磊%胡雄伟

    고정산%리건광%왕홍걸%안준명%리건%하군뢰%호웅위

    火焰水解%SiO2%GeO2%折射率%光波导 火燄水解%SiO2%GeO2%摺射率%光波導
    화염수해%SiO2%GeO2%절사솔%광파도
    用火焰水解法在单晶Si片上沉积了掺Ge的SiO2(GeO2-SiO2)粉末,随后在高温炉中将此粉末烧结成玻璃.用光学显微镜观察了样品表面形貌,研究了不同的烧结工艺对样品形貌的影响.用X射线光电子能谱检测了样品的元素组成,并用棱镜耦合法测量了样品的折射率和厚度.结果表明,用适宜的工艺条件制备出的掺Ge的SiO2具有表面平整光滑,折射率和厚度可调等优点,适合用作Si基SiO2波导器件的芯层.
    용화염수해법재단정Si편상침적료참Ge적SiO2(GeO2-SiO2)분말,수후재고온로중장차분말소결성파리.용광학현미경관찰료양품표면형모,연구료불동적소결공예대양품형모적영향.용X사선광전자능보검측료양품적원소조성,병용릉경우합법측량료양품적절사솔화후도.결과표명,용괄의적공예조건제비출적참Ge적SiO2구유표면평정광활,절사솔화후도가조등우점,괄합용작Si기SiO2파도기건적심층.
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