物理与工程
物理與工程
물리여공정
PHYSICS AND ENGINEERING
2008年
3期
30-33,51
,共5页
光学元件清洗%激光清洗技术综合
光學元件清洗%激光清洗技術綜閤
광학원건청세%격광청세기술종합
本文主要综合比较了几种光学元件清洗方法的优缺点,得出了激光清洗技术是目前最为理想的清洗技术的结论.同时,我们对激光清洗技术的机理和发展前景作了较为详尽的说明.
本文主要綜閤比較瞭幾種光學元件清洗方法的優缺點,得齣瞭激光清洗技術是目前最為理想的清洗技術的結論.同時,我們對激光清洗技術的機理和髮展前景作瞭較為詳儘的說明.
본문주요종합비교료궤충광학원건청세방법적우결점,득출료격광청세기술시목전최위이상적청세기술적결론.동시,아문대격광청세기술적궤리화발전전경작료교위상진적설명.