微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2011年
1期
1-5
,共5页
微光刻技术%微纳米加工技术%分辨率增强技术%下一代光刻技术%可制造性设计
微光刻技術%微納米加工技術%分辨率增彊技術%下一代光刻技術%可製造性設計
미광각기술%미납미가공기술%분변솔증강기술%하일대광각기술%가제조성설계
介绍了微电子技术的关键工艺技术--微光刻与微/纳米加工技术,回顾了中国制版光刻与微/纳米加工技术的发展历程与现状,讨论了微光刻与微/纳米加工技术面临的挑战与需要解决的关键技术问题,并介绍了光学光刻分辨率增强技术、下一代光刻技术、可制造性设计技术、纳米结构图形加工技术与纳米CMOS器件研究等问题.近年来,中国科学院微电子研究所通过光学光刻系统的分辨率增强技术(RET),实现亚波长纳米结构图形的制造,并通过应用光学光刻系统和电子束光刻系统之间的匹配与混合光刻技术及纳米结构图形加工技术成功研制了20～50 nm CMOS器件和100 nm HEMT器件.
介紹瞭微電子技術的關鍵工藝技術--微光刻與微/納米加工技術,迴顧瞭中國製版光刻與微/納米加工技術的髮展歷程與現狀,討論瞭微光刻與微/納米加工技術麵臨的挑戰與需要解決的關鍵技術問題,併介紹瞭光學光刻分辨率增彊技術、下一代光刻技術、可製造性設計技術、納米結構圖形加工技術與納米CMOS器件研究等問題.近年來,中國科學院微電子研究所通過光學光刻繫統的分辨率增彊技術(RET),實現亞波長納米結構圖形的製造,併通過應用光學光刻繫統和電子束光刻繫統之間的匹配與混閤光刻技術及納米結構圖形加工技術成功研製瞭20～50 nm CMOS器件和100 nm HEMT器件.
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