新疆大学学报（自然科学版）
新疆大學學報（自然科學版）
신강대학학보（자연과학판）
XINJIANG UNIVERSITY JOURNAL(NATURAL SCIENCE EDITION)
2011年
1期
76-82
,共7页
VOx/SiO2催化剂%正丁烷%氧化脱氢
VOx/SiO2催化劑%正丁烷%氧化脫氫
VOx/SiO2최화제%정정완%양화탈경
采用浸渍法制备了系列VOx/SiO2催化剂,研究了VOx负载量、反应温度、n-butane/O2,空速及反应时间对反应的影响.在反应温度为550℃,VOx负载为3%,n-butane/O2/N2=4/4/42(摩尔比),原料气重时空速为1.5×104mol·h-1·(g·cat)-1时最佳,此时正丁烷转化率和C4烯烃收率分别为40.1%和18.8%,并通过BET、XRD、NH3-TPD、H2-TPR、FT-IR对催化剂进行了表征,XRD,H2-TPR表征结果表明,在低负载量下,VOx能在载体上分散,高负载量时V2O5晶体出现.NH3-TPD表征结果说明,催化剂表面的酸性以弱酸位为主,催化剂活性钒物种表面的酸性增加会提高催化剂的活性,同时也会加剧正丁烷深度氧化反应的程度.
採用浸漬法製備瞭繫列VOx/SiO2催化劑,研究瞭VOx負載量、反應溫度、n-butane/O2,空速及反應時間對反應的影響.在反應溫度為550℃,VOx負載為3%,n-butane/O2/N2=4/4/42(摩爾比),原料氣重時空速為1.5×104mol·h-1·(g·cat)-1時最佳,此時正丁烷轉化率和C4烯烴收率分彆為40.1%和18.8%,併通過BET、XRD、NH3-TPD、H2-TPR、FT-IR對催化劑進行瞭錶徵,XRD,H2-TPR錶徵結果錶明,在低負載量下,VOx能在載體上分散,高負載量時V2O5晶體齣現.NH3-TPD錶徵結果說明,催化劑錶麵的痠性以弱痠位為主,催化劑活性釩物種錶麵的痠性增加會提高催化劑的活性,同時也會加劇正丁烷深度氧化反應的程度.
채용침지법제비료계렬VOx/SiO2최화제,연구료VOx부재량、반응온도、n-butane/O2,공속급반응시간대반응적영향.재반응온도위550℃,VOx부재위3%,n-butane/O2/N2=4/4/42(마이비),원료기중시공속위1.5×104mol·h-1·(g·cat)-1시최가,차시정정완전화솔화C4희경수솔분별위40.1%화18.8%,병통과BET、XRD、NH3-TPD、H2-TPR、FT-IR대최화제진행료표정,XRD,H2-TPR표정결과표명,재저부재량하,VOx능재재체상분산,고부재량시V2O5정체출현.NH3-TPD표정결과설명,최화제표면적산성이약산위위주,최화제활성범물충표면적산성증가회제고최화제적활성,동시야회가극정정완심도양화반응적정도.
