三明学院学报
三明學院學報
삼명학원학보
JOURNAL OF SANMING COLLEGE
2011年
5期
61-64,87
,共5页
射频%磁控溅射%TiO2薄膜%亲水性
射頻%磁控濺射%TiO2薄膜%親水性
사빈%자공천사%TiO2박막%친수성
radio frequency%magnetron sputtering%TiO2 thin films%hydrophilicity
采用射频磁控溅射法制备了锐钛矿相TiO2薄膜,在基片温度、溅射功率、溅射时间以及靶材与基片间的距离等因素不变的情况下,研究不同氩氧分压比对薄膜亲水性能的影响。通过原子力显微镜(AFM)、X射线衍射光谱(XRD)表征了薄膜的微观表面形貌和晶相组成,采用静态接触角(SCA)评估薄膜的亲水性。实验结果表明不同氩氧比制备的锐钛矿相TiO2薄膜,紫外光照12 h后,接触角降到10o左右,而氩氧比小于等于5:5的接触角都低至5o左右,达到了超亲水性。氩氧分压比为4:6时,样品薄膜的光致亲水性最佳且光照后亲水性的保持较长。
採用射頻磁控濺射法製備瞭銳鈦礦相TiO2薄膜,在基片溫度、濺射功率、濺射時間以及靶材與基片間的距離等因素不變的情況下,研究不同氬氧分壓比對薄膜親水性能的影響。通過原子力顯微鏡(AFM)、X射線衍射光譜(XRD)錶徵瞭薄膜的微觀錶麵形貌和晶相組成,採用靜態接觸角(SCA)評估薄膜的親水性。實驗結果錶明不同氬氧比製備的銳鈦礦相TiO2薄膜,紫外光照12 h後,接觸角降到10o左右,而氬氧比小于等于5:5的接觸角都低至5o左右,達到瞭超親水性。氬氧分壓比為4:6時,樣品薄膜的光緻親水性最佳且光照後親水性的保持較長。
채용사빈자공천사법제비료예태광상TiO2박막,재기편온도、천사공솔、천사시간이급파재여기편간적거리등인소불변적정황하,연구불동아양분압비대박막친수성능적영향。통과원자력현미경(AFM)、X사선연사광보(XRD)표정료박막적미관표면형모화정상조성,채용정태접촉각(SCA)평고박막적친수성。실험결과표명불동아양비제비적예태광상TiO2박막,자외광조12 h후,접촉각강도10o좌우,이아양비소우등우5:5적접촉각도저지5o좌우,체도료초친수성。아양분압비위4:6시,양품박막적광치친수성최가차광조후친수성적보지교장。
TiO2 anatase thin film was prepared by radio frequency magnetron sputtering method.The TiO2 thin film's hydrophilicity influenced by oxygen partial pressure was studied when the other technological parameters remained the same,such as substrate temperature,sputtering power,sputtering time and the distance between the sputtering target and the substrate.The surface morphology,crystalline phase and hydrophicity were characterized by atomic force microscope(AFM),X-ray diffraction spectrum(XRD) and static contact angle(SCTA),respectively.The results indicate that the prepared TiO2 thin films show the photo-induced hydropholicity after 12 hours irradiation of ultraviolet ray,and it is the best when the ratio between argon and oxygen is 4:6.