微处理机
微處理機
미처리궤
MICROPROCESSORS
2010年
3期
18-20
,共3页
苟君%吴志明%太惠玲%袁凯
茍君%吳誌明%太惠玲%袁凱
구군%오지명%태혜령%원개
AlCu合金%反应离子刻蚀%侧壁保护%残留物
AlCu閤金%反應離子刻蝕%側壁保護%殘留物
AlCu합금%반응리자각식%측벽보호%잔류물
AlCu合金的反应离子刻蚀具有其工艺特殊性,如Cu的去除、侧壁的保护、后腐蚀的抑制等.采用BCl3、Cl2、N2和CH4刻蚀AlCu合金,获得了优化的工艺参数,分析了CH4的侧壁保护作用,重点研究了刻蚀残留物的去除.
AlCu閤金的反應離子刻蝕具有其工藝特殊性,如Cu的去除、側壁的保護、後腐蝕的抑製等.採用BCl3、Cl2、N2和CH4刻蝕AlCu閤金,穫得瞭優化的工藝參數,分析瞭CH4的側壁保護作用,重點研究瞭刻蝕殘留物的去除.
AlCu합금적반응리자각식구유기공예특수성,여Cu적거제、측벽적보호、후부식적억제등.채용BCl3、Cl2、N2화CH4각식AlCu합금,획득료우화적공예삼수,분석료CH4적측벽보호작용,중점연구료각식잔류물적거제.
