西北工业大学学报
西北工業大學學報
서북공업대학학보
JOURNAL OF NORTHWESTERN POLYTECHNICAL UNIVERSITY
2010年
4期
515-519
,共5页
张淼%刘正堂%李阳平%郑倩%刘辉
張淼%劉正堂%李暘平%鄭倩%劉輝
장묘%류정당%리양평%정천%류휘
二维亚波长结构%反应离子刻蚀%衍射效应%刻蚀深度
二維亞波長結構%反應離子刻蝕%衍射效應%刻蝕深度
이유아파장결구%반응리자각식%연사효응%각식심도
为了在Ge衬底上制备出锥形二雏亚波长结构,文章研究了紫外接触式光刻工艺和反应离子刻蚀工艺对光刻及刻蚀图形的影响.结果发现:由于紫外光的衍射效应,光刻胶图形项部出现了凹坑,使其有效抗蚀厚度减小,提高光刻胶图形的有效抗蚀厚度,能有效增加最大刻蚀深度;在设计上适当增大掩膜版图形尺寸,即占空比f要略大于理论设定值,可以弥补后续刻蚀过程占空比的缩小;在刻蚀气体SF6中掺入一定量的O2可明显提高Ge的刻蚀深度;降低横向刻蚀速率,从而有利于制备出锥形浮雕结构.
為瞭在Ge襯底上製備齣錐形二雛亞波長結構,文章研究瞭紫外接觸式光刻工藝和反應離子刻蝕工藝對光刻及刻蝕圖形的影響.結果髮現:由于紫外光的衍射效應,光刻膠圖形項部齣現瞭凹坑,使其有效抗蝕厚度減小,提高光刻膠圖形的有效抗蝕厚度,能有效增加最大刻蝕深度;在設計上適噹增大掩膜版圖形呎吋,即佔空比f要略大于理論設定值,可以瀰補後續刻蝕過程佔空比的縮小;在刻蝕氣體SF6中摻入一定量的O2可明顯提高Ge的刻蝕深度;降低橫嚮刻蝕速率,從而有利于製備齣錐形浮彫結構.
위료재Ge츤저상제비출추형이추아파장결구,문장연구료자외접촉식광각공예화반응리자각식공예대광각급각식도형적영향.결과발현:유우자외광적연사효응,광각효도형항부출현료요갱,사기유효항식후도감소,제고광각효도형적유효항식후도,능유효증가최대각식심도;재설계상괄당증대엄막판도형척촌,즉점공비f요략대우이론설정치,가이미보후속각식과정점공비적축소;재각식기체SF6중참입일정량적O2가명현제고Ge적각식심도;강저횡향각식속솔,종이유리우제비출추형부조결구.
