半导体技术
半導體技術
반도체기술
SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
2004年
6期
30-32,35
,共4页
UltraTech%数据处理%光刻版%光刻
UltraTech%數據處理%光刻版%光刻
UltraTech%수거처리%광각판%광각
提出一种新的UT 1X光刻版规格:63.5mm×127mm,与原来的76.2mm×127mm的UT1X光刻版适用于同一种UltraTech步进光刻机.相应的光刻版数据处理以及夹具进行了调整.新规格的光刻版将127mm×127mm的基材的产出提高了一倍,加快了光刻版的生产速度,同时减少了废弃物的产生,有利于降低成本和环境保护.
提齣一種新的UT 1X光刻版規格:63.5mm×127mm,與原來的76.2mm×127mm的UT1X光刻版適用于同一種UltraTech步進光刻機.相應的光刻版數據處理以及夾具進行瞭調整.新規格的光刻版將127mm×127mm的基材的產齣提高瞭一倍,加快瞭光刻版的生產速度,同時減少瞭廢棄物的產生,有利于降低成本和環境保護.
제출일충신적UT 1X광각판규격:63.5mm×127mm,여원래적76.2mm×127mm적UT1X광각판괄용우동일충UltraTech보진광각궤.상응적광각판수거처리이급협구진행료조정.신규격적광각판장127mm×127mm적기재적산출제고료일배,가쾌료광각판적생산속도,동시감소료폐기물적산생,유리우강저성본화배경보호.
