光电子技术
光電子技術
광전자기술
OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY
2007年
4期
224-227
,共4页
陈金明%胡国华%恽斌峰%崔一平
陳金明%鬍國華%惲斌峰%崔一平
진금명%호국화%운빈봉%최일평
聚合物光波导%光刻工艺%曝光量%曝光后烘焙
聚閤物光波導%光刻工藝%曝光量%曝光後烘焙
취합물광파도%광각공예%폭광량%폭광후홍배
针对RZJ-304(25 mp.s)型正性光刻胶,对芯层为PMMA的光波导材料,研究接触式光刻机提高光刻分辨率的方法.分别采用不同的曝光强度和曝光时间来改变曝光量,研究其对光刻图形宽度的影响;并通过改变曝光后烘焙(PEB)的温度和时间以及采用不同的显影时间,研究了其对光刻图形宽度的影响,从而得出优化的光刻工艺参数.
針對RZJ-304(25 mp.s)型正性光刻膠,對芯層為PMMA的光波導材料,研究接觸式光刻機提高光刻分辨率的方法.分彆採用不同的曝光彊度和曝光時間來改變曝光量,研究其對光刻圖形寬度的影響;併通過改變曝光後烘焙(PEB)的溫度和時間以及採用不同的顯影時間,研究瞭其對光刻圖形寬度的影響,從而得齣優化的光刻工藝參數.
침대RZJ-304(25 mp.s)형정성광각효,대심층위PMMA적광파도재료,연구접촉식광각궤제고광각분변솔적방법.분별채용불동적폭광강도화폭광시간래개변폭광량,연구기대광각도형관도적영향;병통과개변폭광후홍배(PEB)적온도화시간이급채용불동적현영시간,연구료기대광각도형관도적영향,종이득출우화적광각공예삼수.
