功能材料与器件学报
功能材料與器件學報
공능재료여기건학보
JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS AND DEVICES
2007年
6期
566-571
,共6页
许晓昕%高翔%徐静%吴亚明
許曉昕%高翔%徐靜%吳亞明
허효흔%고상%서정%오아명
微机电系统(MEMS)%Pyrex玻璃%湿法刻蚀%表面质量
微機電繫統(MEMS)%Pyrex玻璃%濕法刻蝕%錶麵質量
미궤전계통(MEMS)%Pyrex파리%습법각식%표면질량
高表面质量的pyrex玻璃对提高MEMS器件尤其是光学器件性能至关重要.本文采用TiW/Au+AZ4620厚胶作为多层复合刻蚀掩模,重点研究了玻璃湿法深刻蚀工艺中提高表面质量的方法,并分析了钻蚀和表面粗糙度产生的机理.结果表明,采用TiW/Au+AZ4620厚胶的多层掩膜比 TiW/Au掩膜能更有效地避免被保护玻璃表面产生针孔缺陷,减轻钻蚀.在纯HF中添加HCl,可以得到更光洁的刻蚀表面,当HF与HCl体积配比为10:1时,玻璃刻蚀面粗糙度由14.1nm减小为2.3nm.利用该工艺,成功实现了pyrex7740玻璃的150μm深刻蚀,保护区域的光学表面未出现钻蚀针孔等缺陷,同时完成了金属引线和对准标记的制作,为基于玻璃材料的MEMS器件制作提供了一种新的加工方法.
高錶麵質量的pyrex玻璃對提高MEMS器件尤其是光學器件性能至關重要.本文採用TiW/Au+AZ4620厚膠作為多層複閤刻蝕掩模,重點研究瞭玻璃濕法深刻蝕工藝中提高錶麵質量的方法,併分析瞭鑽蝕和錶麵粗糙度產生的機理.結果錶明,採用TiW/Au+AZ4620厚膠的多層掩膜比 TiW/Au掩膜能更有效地避免被保護玻璃錶麵產生針孔缺陷,減輕鑽蝕.在純HF中添加HCl,可以得到更光潔的刻蝕錶麵,噹HF與HCl體積配比為10:1時,玻璃刻蝕麵粗糙度由14.1nm減小為2.3nm.利用該工藝,成功實現瞭pyrex7740玻璃的150μm深刻蝕,保護區域的光學錶麵未齣現鑽蝕針孔等缺陷,同時完成瞭金屬引線和對準標記的製作,為基于玻璃材料的MEMS器件製作提供瞭一種新的加工方法.
고표면질량적pyrex파리대제고MEMS기건우기시광학기건성능지관중요.본문채용TiW/Au+AZ4620후효작위다층복합각식엄모,중점연구료파리습법심각식공예중제고표면질량적방법,병분석료찬식화표면조조도산생적궤리.결과표명,채용TiW/Au+AZ4620후효적다층엄막비 TiW/Au엄막능경유효지피면피보호파리표면산생침공결함,감경찬식.재순HF중첨가HCl,가이득도경광길적각식표면,당HF여HCl체적배비위10:1시,파리각식면조조도유14.1nm감소위2.3nm.이용해공예,성공실현료pyrex7740파리적150μm심각식,보호구역적광학표면미출현찬식침공등결함,동시완성료금속인선화대준표기적제작,위기우파리재료적MEMS기건제작제공료일충신적가공방법.
