光电子·激光
光電子·激光
광전자·격광
JOURNAL OF OPTOECTRONICS·LASER
2007年
9期
1058-1060
,共3页
滕晓云%刘彩池%郝秋艳%张丽%许贺菊%于威
滕曉雲%劉綵池%郝鞦豔%張麗%許賀菊%于威
등효운%류채지%학추염%장려%허하국%우위
ZnO薄膜%O2压%脉冲激光沉积(PLD)
ZnO薄膜%O2壓%脈遲激光沉積(PLD)
ZnO박막%O2압%맥충격광침적(PLD)
采用脉冲激光沉积(PLD)法在Al2O3(0002)衬底上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜.用X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、霍尔电导测量和透射光谱等表征技术研究了工作O2压对ZnO薄膜的结晶特性、电学和光学性能的影响.研究结果显示:在133×10-1～266×10-2 Pa内,ZnO薄膜的晶粒尺度随工作O2压的增加而增加,晶体结构趋于完整,表面更加平整;当工作O2压为266×10-1 Pa时,ZnO薄膜的表面粗糙度有所增加,薄膜的结晶质量恶化;工作O2压的不同导致ZnO薄膜的电学、光学特性的变化.
採用脈遲激光沉積(PLD)法在Al2O3(0002)襯底上製備瞭具有高c軸擇優取嚮的ZnO薄膜.用X射線衍射(XRD)、原子力顯微鏡(AFM)、霍爾電導測量和透射光譜等錶徵技術研究瞭工作O2壓對ZnO薄膜的結晶特性、電學和光學性能的影響.研究結果顯示:在133×10-1～266×10-2 Pa內,ZnO薄膜的晶粒呎度隨工作O2壓的增加而增加,晶體結構趨于完整,錶麵更加平整;噹工作O2壓為266×10-1 Pa時,ZnO薄膜的錶麵粗糙度有所增加,薄膜的結晶質量噁化;工作O2壓的不同導緻ZnO薄膜的電學、光學特性的變化.
채용맥충격광침적(PLD)법재Al2O3(0002)츤저상제비료구유고c축택우취향적ZnO박막.용X사선연사(XRD)、원자력현미경(AFM)、곽이전도측량화투사광보등표정기술연구료공작O2압대ZnO박막적결정특성、전학화광학성능적영향.연구결과현시:재133×10-1～266×10-2 Pa내,ZnO박막적정립척도수공작O2압적증가이증가,정체결구추우완정,표면경가평정;당공작O2압위266×10-1 Pa시,ZnO박막적표면조조도유소증가,박막적결정질량악화;공작O2압적불동도치ZnO박막적전학、광학특성적변화.
