原子能科学技术
原子能科學技術
원자능과학기술
ATOMIC ENERGY SCIENCE AND TECHNOLOGY
2010年
9期
1126-1130
,共5页
陈秋云%赖新春%白彬%张桂凯%罗丽珠%蒋春丽
陳鞦雲%賴新春%白彬%張桂凱%囉麗珠%蔣春麗
진추운%뢰신춘%백빈%장계개%라려주%장춘려
UO2%薄膜%反射光谱%厚度%光学常数
UO2%薄膜%反射光譜%厚度%光學常數
UO2%박막%반사광보%후도%광학상수
利用磁控溅射法制备了UO2薄膜,通过扫描电子显微镜、X射线光电子能谱仪及X射线衍射仪,对薄膜进行了分析和表征.利用反射光谱法测得了薄膜在400～1 200 nm波长范围内的反射率.通过对反射图谱进行数据拟合,得出UO2薄膜在450～950 nm波长范围内的折射率为2.1～2.65,消光系数约0.51,厚度为637 nm.
利用磁控濺射法製備瞭UO2薄膜,通過掃描電子顯微鏡、X射線光電子能譜儀及X射線衍射儀,對薄膜進行瞭分析和錶徵.利用反射光譜法測得瞭薄膜在400～1 200 nm波長範圍內的反射率.通過對反射圖譜進行數據擬閤,得齣UO2薄膜在450～950 nm波長範圍內的摺射率為2.1～2.65,消光繫數約0.51,厚度為637 nm.
이용자공천사법제비료UO2박막,통과소묘전자현미경、X사선광전자능보의급X사선연사의,대박막진행료분석화표정.이용반사광보법측득료박막재400～1 200 nm파장범위내적반사솔.통과대반사도보진행수거의합,득출UO2박막재450～950 nm파장범위내적절사솔위2.1～2.65,소광계수약0.51,후도위637 nm.
