计算机工程与科学
計算機工程與科學
계산궤공정여과학
COMPUTER ENGINEERING & SCIENCE
2011年
7期
118-122
,共5页
电子束光刻%邻近效应校正%有效曝光剂量%局部曝光窗口%全局曝光窗口
電子束光刻%鄰近效應校正%有效曝光劑量%跼部曝光窗口%全跼曝光窗口
전자속광각%린근효응교정%유효폭광제량%국부폭광창구%전국폭광창구
本文研究了基于形状修正的电子束光刻分级邻近效应校正技术,在内部邻近效应校正的基础上,在计算图形之间产生的相互邻近效应过程中,采用了局部曝光窗口和全局曝光窗口机制.局部曝光窗口的区域小,对计算精度影响大,采用累积求和的方法进行精确计算；全局曝光窗口区域大,对计算精度影响小,采用大像点近似的方法进行计算,从而更快速地实现邻近效应校正.该技术的应用,满足了校正精度和运算速度两方面的要求.实验结果与模拟结果一致,表明通过采用局部曝光窗口和全局曝光窗口机制,能够快速地实现相互邻近效应校正,在校正精度相同的情况下,有效提高了运算速度.
本文研究瞭基于形狀脩正的電子束光刻分級鄰近效應校正技術,在內部鄰近效應校正的基礎上,在計算圖形之間產生的相互鄰近效應過程中,採用瞭跼部曝光窗口和全跼曝光窗口機製.跼部曝光窗口的區域小,對計算精度影響大,採用纍積求和的方法進行精確計算；全跼曝光窗口區域大,對計算精度影響小,採用大像點近似的方法進行計算,從而更快速地實現鄰近效應校正.該技術的應用,滿足瞭校正精度和運算速度兩方麵的要求.實驗結果與模擬結果一緻,錶明通過採用跼部曝光窗口和全跼曝光窗口機製,能夠快速地實現相互鄰近效應校正,在校正精度相同的情況下,有效提高瞭運算速度.
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