真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2011年
6期
666-670
,共5页
彭龙%李元勋%李乐中%杨定宇%朱兴华
彭龍%李元勛%李樂中%楊定宇%硃興華
팽룡%리원훈%리악중%양정우%주흥화
SmCo薄膜%微机电系统%磁控溅射%相变%矫顽力
SmCo薄膜%微機電繫統%磁控濺射%相變%矯頑力
SmCo박막%미궤전계통%자공천사%상변%교완력
以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5合金为靶材,采用磁控溅射工艺在单晶Si基片上沉积了SmCo基永磁薄膜.研究了溅射工艺参数对薄膜的晶体结构、微观结构和磁性能的影响.结果表明:溅射气压和溅射功率的改变引起了永磁相变,这主要依赖于溅射工艺条件对薄膜Sm含量的影响.高的溅射压强和溅射功率都会引起薄膜晶粒的粗大化和薄膜表面的粗糙化.薄膜的晶体结构和微观结构随溅射参数的变化决定了薄膜的面内磁学行为.当溅射压强为0.3 Pa和溅射功率为5.1 W/cm2时,制备的退火态SmCo基薄膜为TbCu7单相晶体结构,其面内永磁性能良好.
以Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5閤金為靶材,採用磁控濺射工藝在單晶Si基片上沉積瞭SmCo基永磁薄膜.研究瞭濺射工藝參數對薄膜的晶體結構、微觀結構和磁性能的影響.結果錶明:濺射氣壓和濺射功率的改變引起瞭永磁相變,這主要依賴于濺射工藝條件對薄膜Sm含量的影響.高的濺射壓彊和濺射功率都會引起薄膜晶粒的粗大化和薄膜錶麵的粗糙化.薄膜的晶體結構和微觀結構隨濺射參數的變化決定瞭薄膜的麵內磁學行為.噹濺射壓彊為0.3 Pa和濺射功率為5.1 W/cm2時,製備的退火態SmCo基薄膜為TbCu7單相晶體結構,其麵內永磁性能良好.
이Sm(Co0.62Fe0.25Cu0.1Zr0.03)7.5합금위파재,채용자공천사공예재단정Si기편상침적료SmCo기영자박막.연구료천사공예삼수대박막적정체결구、미관결구화자성능적영향.결과표명:천사기압화천사공솔적개변인기료영자상변,저주요의뢰우천사공예조건대박막Sm함량적영향.고적천사압강화천사공솔도회인기박막정립적조대화화박막표면적조조화.박막적정체결구화미관결구수천사삼수적변화결정료박막적면내자학행위.당천사압강위0.3 Pa화천사공솔위5.1 W/cm2시,제비적퇴화태SmCo기박막위TbCu7단상정체결구,기면내영자성능량호.
