应用化学
應用化學
응용화학
CHINESE JOURNAL OF APPLIED CHEMISTRY
2002年
6期
539-543
,共5页
孙乔玉%力虎林%Catherine Henry de Villeneuve%Philippe Allongue
孫喬玉%力虎林%Catherine Henry de Villeneuve%Philippe Allongue
손교옥%력호림%Catherine Henry de Villeneuve%Philippe Allongue
硅表面%有机嫁接单分子膜%界面微分电容分析
硅錶麵%有機嫁接單分子膜%界麵微分電容分析
규표면%유궤가접단분자막%계면미분전용분석
用界面电容分析法,研究了影响烯烃类分子在氢结尾的硅(111)表面上通过Si-C 键嫁接有机单分子膜的某些因素和有机单分子膜对硅表面氧化的钝化作用. 指出嫁接反应条件或嫁接分子的反应活性的差异都会影响所形成的单分子膜的质量;在所选择的反应条件下,由于烯烃修饰的硅表面上嫁接分子所占的体积分数约为0.90,故只能对硅 表面的氧化产生有限的钝化作用. 另外,系统测量了不同链长的烯烃分子形成的有机单分子膜的电容特性参数.
用界麵電容分析法,研究瞭影響烯烴類分子在氫結尾的硅(111)錶麵上通過Si-C 鍵嫁接有機單分子膜的某些因素和有機單分子膜對硅錶麵氧化的鈍化作用. 指齣嫁接反應條件或嫁接分子的反應活性的差異都會影響所形成的單分子膜的質量;在所選擇的反應條件下,由于烯烴脩飾的硅錶麵上嫁接分子所佔的體積分數約為0.90,故隻能對硅 錶麵的氧化產生有限的鈍化作用. 另外,繫統測量瞭不同鏈長的烯烴分子形成的有機單分子膜的電容特性參數.
용계면전용분석법,연구료영향희경류분자재경결미적규(111)표면상통과Si-C 건가접유궤단분자막적모사인소화유궤단분자막대규표면양화적둔화작용. 지출가접반응조건혹가접분자적반응활성적차이도회영향소형성적단분자막적질량;재소선택적반응조건하,유우희경수식적규표면상가접분자소점적체적분수약위0.90,고지능대규 표면적양화산생유한적둔화작용. 령외,계통측량료불동련장적희경분자형성적유궤단분자막적전용특성삼수.
