微电子学与计算机
微電子學與計算機
미전자학여계산궤
MICROELECTRONICS & COMPUTER
2004年
6期
206-208
,共3页
超大规模集成电路%超深亚微米%阈值电压%仿真%优化
超大規模集成電路%超深亞微米%閾值電壓%倣真%優化
초대규모집성전로%초심아미미%역치전압%방진%우화
首先介绍了集成电路TCAD虚拟工厂系统Tauru Worbench,基于CMOS工艺的特点,在Taurus Workbench环境下进行了深亚微米级N沟器件的核心参数优化,优化结果印证了新的工艺条件对器件特性的改善.
首先介紹瞭集成電路TCAD虛擬工廠繫統Tauru Worbench,基于CMOS工藝的特點,在Taurus Workbench環境下進行瞭深亞微米級N溝器件的覈心參數優化,優化結果印證瞭新的工藝條件對器件特性的改善.
수선개소료집성전로TCAD허의공엄계통Tauru Worbench,기우CMOS공예적특점,재Taurus Workbench배경하진행료심아미미급N구기건적핵심삼수우화,우화결과인증료신적공예조건대기건특성적개선.
